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Terbium-Eisen-Legierung

Chemical Name:
Terbium-Eisen-Legierung
Formula:
TbFe
Product No.:
652600
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
652600ST001 TbFe (45/55at%) 99.9% (REO) Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
652600ST001
Formula
TbFe (45/55at%)
Purity
99.9% (REO)
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm

Terbium-Eisen-Legierung Sputtering Target Übersicht

Terbium-Eisen-Legierungs-Sputter-Targets für spintronische Geräte sind hochleistungsfähige Verbundtargets, die für magneto-optische und spintronische Dünnschichtanwendungen entwickelt wurden. Sie finden breite Anwendung bei der Herstellung von High-End-Geräten wie nichtflüchtigen Magnetspeichern, magnetooptischen Aufzeichnungsmaterialien und magnetostriktiven Elementen. Das Material hat ein stabiles Zusammensetzungsverhältnis (45% Terbium und 55% Eisen), das die hohen magnetostriktiven Eigenschaften von Terbium mit der ausgezeichneten magnetischen Permeabilität von Eisen kombiniert und dem filmbildenden Material ausgezeichnete Möglichkeiten zur Regulierung magnetischer Eigenschaften verleiht.

Wir bieten runde, rechteckige und ringförmige Terbium-Eisen-Legierungs-Sputter-Targets für magneto-optische Filme an, die kundenspezifische Größen, Verbindungsmethoden und Rückwandschweißen unterstützen. Die Produkte werden streng vakuumgeschmolzen und gleichmäßig legiert, um sicherzustellen, dass die Mikrostruktur des Targets dicht, die chemische Zusammensetzung einheitlich und die magnetischen Eigenschaften stabil sind. Wir bieten auch einen umfassenden Kundendienst an. Wenn Sie Fragen zur Verwendung haben, können Sie sich gerne an uns wenden, um sich über unsere Dienstleistungen als Lieferant von Terbium-Eisen-Legierungen für Sputtertargets zu informieren.

Produkt-Highlights von Terbium-Eisen-Legierung Sputtern Ziel

Präzises Zusammensetzungsverhältnis: kann je nach Bedarf feinabgestimmt werden
Dichte Struktur: 99,9 % theoretische Dichte, geringe Porosität, stabile Sputtering-Rate
Ausgezeichnete magnetische Eigenschaften: hohe Koerzitivfeldstärke, einstellbarer Magnetostriktionskoeffizient
Glatte Oberflächenbehandlung, geeignet für gängige PVD-Systeme
Anwendbare Prozesse: DC-Magnetronsputtern, gepulste Laserabscheidung (PLD), Ionenstrahlabscheidung, usw.
Bindender Service

Anwendungen von Terbium-Eisen-Legierungs-Sputter-Targets

Magneto-optische Aufzeichnungsmedien: TbFe-Dünnschichten werden aufgrund ihres magneto-optischen Kerr-Effekts häufig in MO-Scheiben und magneto-optischen Sensoren verwendet
Spintronik-Bauelemente: können zum Aufbau asymmetrischer magnetischer Mehrschichtstrukturen verwendet werden, um die magnetische Speicherdichte zu erhöhen
Magnetostriktive Sensoren/Aktuatoren: TbFe-Legierungen haben ausgezeichnete magnetostriktive Eigenschaften und eignen sich für Mikroantriebe oder Sensorelemente
Wissenschaftliche Forschung und Materialforschung: zur Untersuchung magneto-optischer Kopplungseffekte, magnetischer Domänenstrukturen und des magnetischen Transportverhaltens von Materialien

Berichte

Wir stellen Analysezertifikate (COA), Sicherheitsdatenblätter (MSDS) und andere relevante Berichte für jede Charge von Waren zur Verfügung. Darüber hinaus unterstützen wir auch Prüfungen durch Dritte, um die Qualitätssicherung zu verbessern.

Molekulare Formel: TbFe
Äußeres Erscheinungsbild: Silbergraues Metalltarget, Oberfläche präzisionspoliert
Morphologie: Dichte Legierung (scheibenförmig/rechteckig, kann an Backplane gebunden werden)
Reinheit: 99,9%
Schmelzpunkt: ~1.450°C (Solidus)
Anwendbare Prozesse: DC-Magnetron-Sputtering, RF-Sputtering
Kristallstruktur: Kubisches System
Stabilität: Stabil in trockener Luft

Innenverpackung: Vakuumverpackung, Verpackung entspricht den Anforderungen für Gefahrgutverpackungen
Außenverpackung: Karton oder Holzkiste, je nach Größe und Gewicht, entspricht den Anforderungen an die Gefahrgutverpackung.

Dokumente

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