Niob-Titan-Legierung

Übersicht über Sputtertargets aus Niob-Titan-Legierung

Sputtertargets
aus Niob-Titan-Legierung
sind hochreine Niob-Titan-Legierungsmaterialien mit ausgezeichneter Supraleitfähigkeit, elektrischer Leitfähigkeit und thermischer Stabilität, wodurch sie sich für die Abscheidung von funktionalen Dünnschichten und hochleistungsfähigen elektronischen Bauelementen eignen. Sie werden hauptsächlich für die Herstellung von supraleitenden Schichten, elektronischen Funktionsschichten, magnetischen Dünnschichten und Verbundschichten verwendet.

Wir bieten runde, quadratische und rotierende NbTi-Sputter-Targets mit einer Reinheit von 99,5 % bis 99,95 % an und können Größen, Dicken und Backplane-Strukturen individuell anpassen. Die Targets werden mittels Heißpresssinterung, Hochvakuumsinterung oder Diffusionsschweißverfahren hergestellt, um eine hohe Dichte, eine gleichmäßige Schichtbildung und eine stabile Sputterleistung zu gewährleisten, die für Forschungs- und industrielle Massenproduktionsanwendungen geeignet sind. Kontaktieren Sie uns
für technische Informationen.

Produkt-Highlights

Hochreine Sputtertargets aus Niob-Titan-Legierung
Hervorragende supraleitende und leitfähige Eigenschaften
Hohe Dichte, gleichmäßige Schichtbildung
Chargenstabilität, zuverlässige Sputterleistung
Anpassbare Größe, Dicke und Rückwand
Langlebige Targets, geeignet für Anwendungen im industriellen Maßstab
Kann zu rotierenden Targets oder kundenspezifischen Wärmemanagement-Designs verarbeitet werden

Anwendungen von Sputtertargets aus Niob-Titan-Legierungen

Herstellung supraleitender Schichten: Verwendung für die Dünnschichtabscheidung in MRT, Teilchenbeschleunigern und supraleitenden Geräten für die wissenschaftliche Forschung.
Elektronische Funktionsdünnschichten: Verwendung für leitfähige Schichten oder elektronische Verbunddünnschichten.
Magnetische Dünnschichten: Verwendung für die Herstellung von Hochleistungs-Magnetvorrichtungen und Sensor-Dünnschichten.
Verbundschichten: Geeignet für die Herstellung von mehrschichtigen oder Verbund-Dünnschichtmaterialien.

Häufig gestellte Fragen

F1: Wie werden NbTi-Sputter-Targets verpackt?
A1: Die Targets sind vakuumversiegelt und mit stoßfesten Außenverpackungen verstärkt, um Sicherheit und Stabilität während des Transports zu gewährleisten.

F2: Welche Verarbeitungs- oder Anpassungsprozesse werden für die Targets unterstützt?
A2: Wir bieten Heißpresssintern, CNC-Präzisionsbearbeitung, Oberflächenschleifen und -polieren sowie Diffusionsschweißen der Rückwand und unterstützen kundenspezifische rotierende Targets.

F3: Wie sollten NbTi-Sputter-Targets gelagert werden?
A3: Es wird empfohlen, sie in einer trockenen, gut belüfteten und lichtgeschützten Umgebung zu lagern und Feuchtigkeit und oxidierende Gase zu vermeiden, um die langfristige Leistungsstabilität der Targets zu gewährleisten.

F4: Wie hoch ist der Reinheitsgrad von NbTi-Targets?
A4: Wir können hochreine Targets mit einem Reinheitsgrad von 99,5 % bis 99,95 % liefern, zusammen mit detaillierten Analyseberichten zur Zusammensetzung und einem Zertifikat (COA).

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Spezialisiert auf die Herstellung von Niob-Titan-Legierungen und supraleitenden Sputtertargets.
Hohe Dichte und hohe Reinheit gewährleisten eine stabile Sputterleistung.
Eine vollständige Anpassung von Größe, Dicke und Backplane-Struktur wird unterstützt.
Stabile Serienfertigung, geeignet sowohl für wissenschaftliche Forschung als auch für großtechnische Anwendungen.
Ein komplettes Prüfsystem garantiert die Rückverfolgbarkeit der Target-Leistung.
Das technische Team bietet Beratung zum Sputterprozess und Anwendungslösungen. Umfangreiche weltweite Versand Erfahrung gewährleistet eine sichere und zuverlässige Verpackung.