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Nickel-Molybdän-Legierung

Chemical Name:
Nickel-Molybdän-Legierung
Formula:
NiMo
Product No.:
284200
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
284200ST001 NiMo (85:15 at%) 99.95% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
284200ST002 NiMo (85:15 at%) 99.95% 121.4 mm x 106 mm x 12mm Inquire
Product ID
284200ST001
Formula
NiMo (85:15 at%)
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
284200ST002
Formula
NiMo (85:15 at%)
Purity
99.95%
Dimension
121.4 mm x 106 mm x 12mm

Übersicht über Sputtertargets aus Nickel-Molybdän-Legierung

Sputtertargets
aus Nickel-Molybdän-Legierung
sind Targets aus einer Nickel-Molybdän-Legierung, die in erster Linie für die Abscheidung korrosionsbeständiger und hochstabiler funktioneller Dünnschichten verwendet werden.

Wir bieten NiMo-Sputtertargets mit kontrollierbaren Zusammensetzungsverhältnissen und hoher Dichte an, die mit verschiedenen Sputteranlagen kompatibel sind. Bitte kontaktieren Sie uns
für technische
Informationen.

Produkt-Highlights

Stabiles Nickel-Molybdän-Verhältnis
Dichte Legierungsmikrostruktur
Gleichmäßige Filmstruktur
Geeignet für Magnetron-Sputterprozesse
Hervorragende Korrosionsbeständigkeit
Gute Betriebsstabilität

Anwendungen von Nickel-Molybdän-Legierung-Sputter-Targets

Korrosionsbeständige funktionelle Dünnschichten: Werden häufig zur Herstellung von funktionellen Dünnschichten verwendet, die eine hohe chemische Stabilität erfordern, um die Lebensdauer von Geräten in komplexen Umgebungen zu verbessern.
Mikroelektronik und Dünnschichtgeräte: Wird in einigen mikroelektronischen Prozessen verwendet, um strukturell stabile Legierungsschichten zu bilden, die die Prozessanforderungen an die Filmkonsistenz erfüllen.
Strukturelle und schützende Beschichtungen: Anwendbar für die Herstellung von Schutzbeschichtungsfilmen, die eine bestimmte mechanische und chemische Stabilität erfordern.
Forschung und Prozessentwicklung: Geeignet für den experimentellen Einsatz in Forschungseinrichtungen zur Steuerung der Legierungsdünnschichtstruktur, zur Optimierung der Sputterparameter und zur Erforschung neuer Anwendungen.

Häufig gestellte Fragen

F1: Für welche Sputtermethode ist das NiMo-Sputtertarget geeignet?
A1: Es kann in herkömmlichen Magnetron-Sputterprozessen verwendet werden. Die spezifische Methode muss auf der Grundlage der Gerätebedingungen bestätigt werden.

F2: Kann das Nickel-Molybdän-Verhältnis im Target angepasst werden?
A2: Ja, je nach den Anforderungen an die Dünnschichtleistung sind maßgeschneiderte Lösungen mit unterschiedlichen Zusammensetzungsverhältnissen erhältlich.

F3: Ist das Target während der Abscheidung stabil?
A3: Unter geeigneten Leistungs- und Atmosphärenbedingungen ist der Target-Abscheidungsprozess stabil, was zur Aufrechterhaltung der Filmkonsistenz beiträgt.

F4: Bieten Sie kleine Targets für Forschungszwecke an?
A4: Ja, wir können verschiedene Spezifikationen anbieten, die für die Forschungs- und Entwicklungs- sowie die Verifizierungsphase geeignet sind.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind auf die Herstellung und Verarbeitung von Legierungs-Sputter-Targets spezialisiert und legen besonderen Wert auf die Kontrolle der Zusammensetzung, die strukturelle Stabilität und die Prozessanpassungsfähigkeit, um unseren Kunden zuverlässige Unterstützung bei der Dünnschichtabscheidung zu bieten.

Molekulare Formel: NiMo
Erscheinungsbild: Silbrig-weißes metallisches Target mit glatter Oberfläche
Kristallstruktur: Körperzentrierte kubische Kristallstruktur

Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.

Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.

Dokumente

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