Rotierende
Nickel-Eisen-Legierungs
-Targets werden in erster Linie in kontinuierlichen Dünnschicht-Abscheidungsprozessen eingesetzt und eignen sich für großflächige magnetische Funktionsdünnschichten und industrielle Produktionsanwendungen.
Wir bieten NiFe-Rotationstargets mit unterschiedlichen Zusammensetzungsverhältnissen, Längen und Schnittstellentypen an, die mit gängigen Geräten kompatibel sind. Kontaktieren Sie uns
für technische Unterstützung.
Geeignet für kontinuierliche Sputterprozesse
Hohe Targetausnutzung
Gleichmäßige Verteilung der Legierungszusammensetzung
Gute Konsistenz der Schichtdicke
Stabile Wärmemanagementleistung
Unterstützt kundenspezifische Verklebung
und Rückplatten
Herstellung großflächiger magnetischer Dünnschichten: Geeignet für magnetische Dünnschichtabscheidungsprozesse, die einen langfristig stabilen Betrieb erfordern, und trägt zur Verbesserung der Effizienz der Produktionslinie und der Schichtkonsistenz bei.
Industrielle Beschichtungsproduktion: Ermöglicht eine stabile Leistung in kontinuierlichen Produktionslinien, reduziert die Umrüsthäufigkeit und eignet sich für die Massenproduktion von Funktionsbeschichtungen.
Elektronik und displaybezogene Materialien: Kann für die Abscheidung von Funktionsschichten in elektronischen Geräten und displaybezogenen Prozessen verwendet werden, in Szenarien, die eine hohe Schichtgleichmäßigkeit erfordern.
Prozess-Scale-up und Parameterüberprüfung: Geeignet für Prozess-Scale-up-Tests vom Labor- bis zum Pilot- und Massenproduktionsstadium, zur Überprüfung der langfristigen Abscheidungsstabilität.
F1: Was sind die Vorteile von rotierenden NiFe-Sputter-Targets gegenüber planaren Targets?
A1: Die rotierende Struktur verbessert die Targetausnutzung und ermöglicht einen stabileren kontinuierlichen Abscheidungsprozess.
F2: Kann es mit rotierenden Sputteranlagen verschiedener Marken kombiniert werden?
A2: Ja, wir können passende Lösungen basierend auf den Anforderungen an die Schnittstelle und Größe der Anlage anbieten.
F3: Neigt das Target bei langfristigem Betrieb zu Unwucht?
A3: Bei ordnungsgemäßer Installation und unter geeigneten Prozessbedingungen ist die Targetstruktur stabil und erfüllt die Anforderungen für den Langzeitbetrieb.
F4: Unterstützen Sie kleine Chargen oder Pilotproduktionsanforderungen?
A4: Ja, wir können maßgeschneiderte Spezifikationen anbieten, die für die Prozessverifizierungsphase geeignet sind.
Jede Charge wird mit folgenden
Unterlagen
geliefert:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir verfügen über langjährige Erfahrung in der Verarbeitung und Montage von rotierenden Sputtertargets und konzentrieren uns auf Materialgleichmäßigkeit, strukturelle Stabilität und Gerätekompatibilität, um zuverlässige Unterstützung für kontinuierliche Beschichtungs- und Massenproduktionsanwendungen zu bieten.
Molekulare Formel: NiFe
Äußeres Erscheinungsbild: Metallischer Glanz, silbrig-weiße oder graue röhrenförmige Scheibe, glatte Oberfläche
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte
