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Nickel-Chrom-Aluminium-Legierung

Chemical Name:
Nickel-Chrom-Aluminium-Legierung
Formula:
NiCrAl
Product No.:
28241300
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
28241300ST001 NiCrAl 99.9% 249 mm x 127 mm x 21mm Inquire
Product ID
28241300ST001
Formula
NiCrAl
Purity
99.9%
Dimension
249 mm x 127 mm x 21mm

Sputter-Targets aus Nickel-Chrom-Aluminium-Legierung – Übersicht

Sputter-Targets
aus Nickel-Chrom-Aluminium
-Legierung sind hochreine Nickel-Chrom-Aluminium-Legierungen, die häufig bei der Herstellung von hochtemperaturbeständigen, korrosionsbeständigen Dünnschichten und funktionalen elektronischen Materialien verwendet werden.

Wir bieten NiCrAl-Sputter-Targets in verschiedenen Größen, Dicken und Strukturen an und unterstützen Sie bei der Auswahl der passenden Ausrüstung und der Prozessoptimierung. Kontaktieren Sie uns
für maßgeschneiderte Lösungen und technische Informationen.

Produkt-Highlights

Hochreine Legierung
Ausgezeichnete Targetsdichte
Gleichmäßige Filmabscheidung
Starke Korrosionsbeständigkeit bei hohen Temperaturen
Gute Entladungsstabilität
Anpassbare Verbindungen
und Backplanes
Zuverlässige Chargenkonsistenz

Anwendungen von NiCrAl-Sputter-Targets

Abscheidung von Hochtemperatur-Dünnschichten: NiCrAl-Targets können für die Abscheidung von hochtemperaturbeständigen Dünnschichten verwendet werden, wodurch die Langzeitstabilität der Materialien verbessert wird.
Funktionale elektronische Materialien: Geeignet für die Abscheidung von Funktionsschichten in elektronischen Geräten, um eine gleichmäßige Filmleistung und stabile Leitfähigkeit zu gewährleisten.
Herstellung korrosionsbeständiger Beschichtungen: Kann in der industriellen oder wissenschaftlichen Forschung zur Herstellung korrosionsbeständiger Beschichtungen verwendet werden, um die chemische Stabilität und Haltbarkeit der Oberfläche zu verbessern.
Wissenschaftliche Forschung und Prozessentwicklung: Die Targets eignen sich für wissenschaftliche Forschungsexperimente und die Entwicklung neuer Materialprozesse, um eine wiederholbare und stabile Dünnschichtabscheidung zu erzielen.

Häufig gestellte Fragen

F1: Was sind die Hauptanwendungsbereiche von NiCrAl-Sputter-Targets?
A1: Häufig verwendet in Hochtemperatur-Dünnschichten, funktionalen elektronischen Materialien, korrosionsbeständigen Beschichtungen und wissenschaftlichen Forschungsexperimenten.

F2: Mit welchen Sputteranlagen ist das Target kompatibel?
A2: Es sind verschiedene Größen und Strukturen erhältlich, die mit gängigen DC- oder RF-Sputteranlagen kompatibel sind.

F3: Wie verhält sich das NiCrAl-Target bei hohen Temperaturen?
A3: Es verfügt über eine ausgezeichnete Hochtemperaturbeständigkeit und Korrosionsbeständigkeit sowie eine hohe Filmstabilität.

F4: Wie sollten NiCrAl-Sputter-Targets gelagert werden?
A4: Es wird empfohlen, sie in einem trockenen, verschlossenen Behälter zu lagern und Stöße und Feuchtigkeit zu vermeiden, um die Leistungsstabilität des Targets zu gewährleisten.

Bericht

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir verfügen über umfangreiche Erfahrung in der Lieferung von funktionalen Sputtertargets und bieten hochreine, hochdichte NiCrAl-Targets und maßgeschneiderte Dienstleistungen sowie umfassenden technischen Support, um unseren Kunden zu helfen, stabile und effiziente Abscheidungsergebnisse bei Hochtemperatur-Dünnschichten, elektronischen Geräten und korrosionsbeständigen Beschichtungsanwendungen zu erzielen.

Molekulare Formel: NiCrAl
Äußeres Erscheinungsbild: Metallisch glänzendes, silbrig-weißes oder graues Zielmaterial, glatte Oberfläche
Kristallstruktur: Flächenzentrierte kubische Kristallstruktur

Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.

Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.

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