Mangan-Oxid

Übersicht über Sputtertargets aus Manganoxid

Sputtertargets
aus Manganoxid (II)
bestehen aus einwertigem Manganoxid (MnO) und werden häufig in Magnetron-Sputterprozessen (PVD) zur Herstellung hochwertiger Dünnschichtmaterialien verwendet. Diese Targets finden breite Anwendung in der Herstellung von Elektronik, Keramik, Glas und anderen Hochleistungsmaterialien.

Wir bieten Manganoxid-Sputter-Targets in verschiedenen Größen, Reinheiten und kundenspezifischen Spezifikationen an, um den unterschiedlichen Anforderungen bei der Dünnschichtabscheidung gerecht zu werden. Bitte kontaktieren Sie uns
.

Produkt-Highlights

Hochreines Target
Dichte Struktur
Hohe chemische Stabilität
Gleichmäßige Partikelgröße
Anpassbare Größen
Geeignet für hochpräzises Sputtern
Kompatibel mit verschiedenen Sputteranlagen
Strenge Qualitätskontrolle

Anwendungen von Manganoxid-Sputter-Targets

Elektronische Geräte und Halbleiterfertigung: Wird für die Dünnschichtabscheidung von Halbleiterkomponenten verwendet, besonders geeignet für die Herstellung von transparenten leitfähigen Schichten, Speichergeräten und Sensorelementen.

Keramik- und Glasindustrie: Wird häufig bei der Herstellung von Keramik und Glas verwendet, um dekorative oder funktionale Dünnschichten abzuscheiden, die zur Verbesserung der Farbe und Leistung der Produkte beitragen.

Batterie-
und Energiespeichermaterialien: MnO ist ein wichtiger Bestandteil von Batteriematerialien und wird häufig in der Forschung und Entwicklung von Kathodenmaterialien für Lithium-Ionen-Batterien verwendet, um die Energiespeicherleistung und Stabilität von Batterien zu verbessern.

Oberflächenbeschichtungen und Schutzfolien: Sputtertargets aus Manganoxid können zur Herstellung von verschleiß- und korrosionsbeständigen Oberflächenbeschichtungen verwendet werden, die häufig für die Oberflächenmodifizierung von Materialien wie Metallen und Kunststoffen eingesetzt werden.

Häufig gestellte Fragen

F1: Was sind die Hauptverwendungszwecke dieser Targets?
A1: Sie werden in erster Linie für die Abscheidung dünner Schichten in der Magnetron-Sputtertechnologie verwendet und finden breite Anwendung in der Elektronik-, Keramik- und Glasindustrie.

F2: Welche Arten von Sputteranlagen sind für MnO-Sputter-Targets geeignet?
A2: Sie sind sowohl für Gleichstrom- als auch für Hochfrequenz-Sputteranlagen geeignet und erfüllen die Abscheidungsanforderungen verschiedener Anwendungen.

F3: Wie wählt man die Reinheitsanforderungen für MnO-Sputter-Targets aus?
A3: Bei der Auswahl der Target-Reinheit müssen die spezifischen Anwendungsanforderungen berücksichtigt werden. In der Elektronik und Halbleiterindustrie ist eine höhere Reinheit erforderlich, während für Keramik- oder Glasanwendungen in der Regel eine geringere Reinheit ausreichend ist.

F4: Benötigen MnO-Sputter-Targets besondere Lagerbedingungen?
A4: Sie sollten in einer trockenen, gut belüfteten und lichtgeschützten Umgebung gelagert werden, wobei der Kontakt mit Wasser oder starken Oxidationsmitteln zu vermeiden ist, um ihre Stabilität zu gewährleisten.

Berichte

Jede Charge wird mit
folgenden Dokumenten
geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Dritten sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind bestrebt, hochreine, hochwertige MnO-Sputtertargets anzubieten. Unser strenges Qualitätskontrollsystem gewährleistet die Konsistenz und Leistungsstabilität jeder Charge. Wir bieten auch maßgeschneiderte Dienstleistungen an, um den unterschiedlichen Kundenbedürfnissen gerecht zu werden. Unser technisches Team bietet umfassende Unterstützung und Beratung, um die effektive Anwendung unserer Produkte in verschiedenen Hochleistungs-Dünnschichtpräparaten sicherzustellen.