Sputtertargets aus Mangan-Kobalt-Legierung sind hochreine Metall- oder Legierungstargets aus Mangan (Mn) und Kobalt (Co), die speziell für die Bildung gleichmäßiger Dünnschichten in physikalischen Gasphasenabscheidungssystemen (PVD) entwickelt wurden. Diese Legierungs-Sputtertargets spielen eine entscheidende Rolle bei der Herstellung von elektronischen und magnetischen Materialien sowie fortschrittlichen funktionalen Dünnschichten und können in Halbleiterbauelementen, magnetischen Speichern und anderen Präzisions-Schichtungsprozessen eingesetzt werden.
Wir bieten Mangan-Kobalt-Legierungs-Sputtertargets in verschiedenen Zusammensetzungsverhältnissen und Größen an und können diese an Ihre Prozessanforderungen anpassen. Bitte kontaktieren Sie uns
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Hochreines Material
Gleichmäßige und dichte Legierung
Geeignet für DC- und RF-Sputtern
Anpassbare
Form und Größe
Ausgezeichnete thermische Stabilität
Hohe Filmkonsistenz
Geeignet für komplexe Filmschichtsysteme
Stabile Chargenlieferung.
Herstellung von
Halbleiter
-Dünnschichten: MnCo-Targets werden in Magnetron-Sputteranlagen zur Abscheidung von Metall- oder Legierungsdünnschichten verwendet und bieten eine stabile Materialbasis für integrierte Schaltkreise, Elektroden und Funktionsschichten.
Magnetische Speichergeräte: Dieses Legierungs-Target kann zur Herstellung magnetischer Dünnschichtkomponenten verwendet werden, wodurch die magnetische Ansprechleistung und Stabilität von Datenspeichermedien verbessert wird, was es zu einem wichtigen Material in der magnetischen Speicherindustrie macht.
Sensoren und mikroelektronische Geräte: Bei der Herstellung mikroelektronischer Komponenten wie Sensoren und MEMS können mit MnCo-Targets abgeschiedene Funktionsschichten die Empfindlichkeit und elektrische Leistung der Geräte optimieren.
Fortschrittliche funktionale Dünnschichten und optoelektronische Bauelemente: Wird zur Herstellung von Dünnschichtmaterialien mit besonderen elektrischen, magnetischen oder chemischen Funktionen verwendet, die für Dünnschichtanwendungen in den Bereichen Display, Optoelektronik und neue Energien geeignet sind.
F1: Was sind die typischen Zusammensetzungskombinationen von MnCo-Sputter-Targets?
A1: MnCo-Targets sind in der Regel ein Legierungssystem aus Mangan und Kobalt. Das Verhältnis der beiden Metalle und die Zusammensetzung des Targets können entsprechend den spezifischen Anforderungen an den Dünnfilm angepasst werden.
F2: Für welche Sputterprozesse ist dieses Target geeignet?
A2: Es ist mit DC- und RF-Magnetron-Sputteranlagen kompatibel und für verschiedene PVD-Sputter-Abscheidungsprozesse geeignet.
F3: Können Größe und Form des Targets angepasst werden?
A3: Ja, Targets können in runder, quadratischer oder spezifischer Größe angepasst werden, um den Anforderungen verschiedener Anlagen und Prozesse gerecht zu werden.
F4: Wie wirkt sich die Reinheit von Legierungs-Targets auf die Filmabscheidungsleistung aus?
A4: Hochreine Targets können den Verunreinigungsgehalt im Film reduzieren, die elektrischen und magnetischen Eigenschaften des Films verbessern und die Produktkonsistenz erhöhen.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.
Wir verfügen über ausgereifte Fähigkeiten in der Entwicklung und Verarbeitung von Targets, kontrollieren streng die Materialreinheit und strukturelle Konsistenz und können die Spezifikationen an die Anforderungen der Kundenausrüstung anpassen. Wir bieten professionellen technischen Support
und schnelle Lieferdienste und bieten unseren Kunden eine zuverlässige Materialgrundlage im Bereich der Dünnschichtabscheidung.
Molekulare Formel: MnCo
Erscheinungsbild: Silber-grau
Dichte: 8,0 g/cm³
Kristallstruktur: Flächenzentriert kubisch (FCC)
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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