Lithium-Niob-Oxid
-Substrate sind hochstabile Funktionsmaterialsubstrate, die sich für das Dünnschichtwachstum und die Herstellung elektronischer Bauelemente eignen. Sie finden breite Anwendung in der Lithium-Ionen-Batterieforschung, in optoelektronischen Bauelementen und bei der Abscheidung funktioneller Beschichtungen.
Wir bieten LNO-Substrate in verschiedenen Größen und Dicken mit glatten Oberflächen und wählbaren Kristallorientierungen an, um den Anforderungen von Forschung und industriellen Anwendungen gerecht zu werden. Kontaktieren Sie uns
jetzt für Muster und maßgeschneiderte Lösungen!
Kontrollierbare Kristallorientierung, vorteilhaft für das Dünnschichtwachstum
Glatte Oberfläche, geringe Fehlerquote
Anpassbare Größe und Dicke
Hohe thermische Stabilität, geeignet für Hochtemperaturprozesse
Unterstützt Forschung und industrielle Anwendungen
Schnelle Reaktion unseres technischen Teams
Dünnschichtabscheidung:
LNO-Substrate werden in Dünnschicht-Herstellungsprozessen wie Magnetron-Sputtern, PLD und CVD verwendet, um die Gleichmäßigkeit und Kristallinität der Schicht zu gewährleisten.
Lithium-Ionen-Batterieforschung:
Als funktionales Substrat unterstützt es die Abscheidung und Leistungsprüfung von Hochleistungs-Elektrodenmaterialien.
Optoelektronische und mikroelektronische Bauelemente:
Bereitstellung kristallorientierter, flacher Substrate, die für das Wachstum von Sensoren, optischen Bauelementen und mikroelektronischen Strukturen geeignet sind.
F1: Welche Kristallorientierungsoptionen sind für LNO-Substrate verfügbar?
A1: Es sind mehrere Kristallorientierungen verfügbar, z. B. (001), (110) usw., die entsprechend den experimentellen Anforderungen ausgewählt werden können.
F2: Können die Größe und Dicke des Substrats angepasst werden?
A2: Ja, wir können verschiedene Spezifikationen entsprechend den Anforderungen der Kundenausrüstung anbieten.
F3: Wie hoch ist die Oberflächenrauheit des LNO-Substrats?
A3: Die Oberfläche ist präzisionspoliert und weist eine Rauheit unterhalb des Nanometerbereichs auf, was für die hochpräzise Dünnschichtabscheidung geeignet ist.
F4: Kann es für Hochtemperatur-Dünnschichtprozesse verwendet werden?
A4: Geeignet für Hochtemperaturprozesse, mit hoher Materialstabilität, die ein stabiles Dünnschichtwachstum gewährleistet.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Dritten sind auf Anfrage erhältlich.
Wir verfügen über langjährige Erfahrung in der Herstellung von Substraten für Funktionsmaterialien. Unsere Produkte haben glatte Oberflächen und kontrollierbare Kristallorientierungen und unterstützen wissenschaftliche Forschung und industrielle Anwendungen. Unser technisches Team kann maßgeschneiderte Lösungen und schnelle Reaktionszeiten bieten, um Kunden bei der effizienten Durchführung von Dünnschichtbeschichtungen und der Herstellung von Bauelementen zu unterstützen.
Molekulargewicht: 147,85 g/mol
Äußeres Erscheinungsbild: Farbloser und transparenter oder leicht getönter Einkristall/polierter Wafer
Dichte: 4,64 g/cm³
Schmelzpunkt: 1253 °C
Kristallstruktur: Trigonal
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte