Lithium-Nickel-Mangan-Kobalt-Oxid NMC

Übersicht über Lithium-Nickel-Mangan-Kobalt-Oxid-Sputter-Targets

Lithium-Nickel-Mangan-Kobalt-Oxid
-Sputter-Targets sind hochdichte, hochgradig einheitliche Funktionsmaterial-Targets, die bei der Herstellung von Dünnschichten und in wissenschaftlichen Forschungsexperimenten zum Einsatz kommen. Sie werden häufig in Kathodenfilmen für Lithium-Ionen-Batterien, Festkörperbatterien und bei der Abscheidung von Funktionsbeschichtungen verwendet.

Wir bieten hochdichte, hochgradig einheitliche NMC-Sputter-Targets an, deren Größe, Dicke und Form an die Anforderungen des Kunden angepasst werden können. Kontaktieren Sie uns
für Muster und maßgeschneiderte Lösungen!

Produkt-Highlights

Hohe Dichte gewährleistet eine gleichmäßige Filmabscheidung
Stabile Kristallstruktur gewährleistet zuverlässige Ergebnisse bei der Filmabscheidung
Größe, Dicke und Form können individuell angepasst werden
Unterstützt die Forschung und die industrielle Dünnschichtfertigung
Feine Oberflächenbeschaffenheit, geringe Fehlerquote
Schnelle Reaktion unseres technischen Teams

Anwendungen von Lithium-Nickel-Mangan-Kobalt-Oxid-Sputter-Targets

Herstellung von Dünnschicht-Kathodenmaterial:
Wird für die Abscheidung von Hochleistungs-Lithium-Ionen-Batterie-Kathodenfilmen verwendet und verbessert die Zyklusstabilität und die elektrochemische Leistung.
Forschung im Bereich Festkörperbatterien:
Unterstützt die Dünnschichtabscheidung für Festkörperbatterien und gewährleistet eine gleichmäßige Grenzfläche und Ionenleitfähigkeit.
Funktionale Beschichtungen:
Wird für die hochpräzise Dünnschichtfertigung in optoelektronischen Geräten, Sensoren und mikroelektronischen Strukturen verwendet und gewährleistet dichte und gleichmäßige Schichten.

Häufig gestellte Fragen

F1: Welche Abscheidungsverfahren eignen sich für NMC-Sputter-Targets?
A1: Geeignet für Magnetron-Sputtern, Elektronenstrahlverdampfung und andere herkömmliche PVD-Verfahren.

F2: Können die Größe und Dicke des Targets angepasst werden?
A2: Ja, je nach den Anforderungen der Kundenausrüstung sind verschiedene Spezifikationen verfügbar.

F3: Wie ist die Gleichmäßigkeit der abgeschiedenen Schicht?
A3: Die Dichte des Targets und die optimierte Kristallstruktur gewährleisten eine hohe Gleichmäßigkeit der Schicht und Kristallqualität.

F4: Ist die Fehlerquote der Targetoberfläche hoch?
A4: Die Targetoberfläche wird präzise poliert, was zu einer geringen Fehlerquote führt und für die hochpräzise Dünnschichtfertigung geeignet ist.

Berichte

Jede Charge wird mit
folgenden Unterlagen
geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Dank unserer langjährigen Erfahrung in der Herstellung von Sputtertargets für Funktionsmaterialien können wir maßgeschneiderte, hochwertige NMC-Sputtertargets anbieten, die die Stabilität und Effizienz der Dünnschichtabscheidung in der wissenschaftlichen Forschung und in industriellen Anwendungen gewährleisten. Unser technisches Team bietet schnelle Reaktionszeiten und professionellen Support, um Kunden bei der Herstellung hochpräziser Dünnschichten zu unterstützen.