ULPMAT

Kobalt Chrom Eisen Nickel

Chemical Name:
Kobalt Chrom Eisen Nickel
Formula:
CoCrFeNi
Product No.:
2724262800
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
2724262800ST001 CoCrFeNi 1:1:1:1at% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
2724262800ST002 CoCrFeNi 1:1:1:1at% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
2724262800ST001
Formula
CoCrFeNi
Purity
1:1:1:1at%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
2724262800ST002
Formula
CoCrFeNi
Purity
1:1:1:1at%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm

Übersicht über Sputtertargets aus Kobalt-Chrom-Eisen-Nickel

Sp
uttertargets
aus Kobalt-Chrom-Eisen-Nickel
sind Multimetall-Verbundtargets, die eine synergistische Abscheidung von Komponenten ermöglichen und sich für die Herstellung und Erforschung von funktionalen und strukturellen Dünnschichten eignen.

Wir bieten Target-Lösungen in verschiedenen Größen, Komponentenverhältnissen und Verbindungsmethoden an und unterstützen die Kommunikation auf Projektebene. Bitte kontaktieren Sie uns
für technische Informationen und Preise.

Produkt-Highlights

Gleichmäßige Zusammensetzung und stabile Mikrostruktur
Gute Stabilität des Sputterprozesses
Hohe Wiederholbarkeit der Schicht
Gute anpassbare
Komponentenverhältnisse
Mehrere Größenoptionen verfügbar
Langfristig stabile

Lieferung
Anwendungen von Kobalt-Chrom-Eisen-Nickel-Sputter-Targets

Abscheidung funktionaler Dünnschichten: Dieses Target eignet sich für die Herstellung multifunktionaler Dünnschichten und erleichtert die Erzielung von Dünnschichtstrukturen mit einstellbarer Zusammensetzung und synergistischer Leistung.
Magnetische und strukturelle Dünnschichtforschung: Wird häufig in der magnetischen oder strukturellen Dünnschichtforschung eingesetzt und unterstützt die Leistungsbewertung unter verschiedenen Elementverhältnissen.
Abriebfeste und korrosionsbeständige Beschichtungen: In der Oberflächentechnik kann es zur Herstellung von Verbunddünnschichtsystemen mit abriebfesten und korrosionsbeständigen Eigenschaften verwendet werden.

Häufig gestellte Fragen

F1: Ist dieses Targetmaterial eher für DC- oder RF-Sputtern geeignet?
A1: Die Wahl hängt von den spezifischen Gerätebedingungen ab. Es ist mit den meisten gängigen Systemen kompatibel. Wir empfehlen, die Wahl auf der Grundlage der Zielmaterialgröße und der Anforderungen an den Dünnfilm zu treffen.

F2: Unterstützen Sie Sondergrößen für nicht standardmäßige Filme?
A2: Ja, wir können das Zielmaterial entsprechend den Anforderungen an den Gerätehohlraum und die Vorrichtung anpassen.

F3: Muss das Zielmaterial vor der Verwendung speziell behandelt werden?
A3: Wir empfehlen generell eine Oberflächenreinigung und ein Vorsputtern, um eine stabile Dünnschichtqualität zu gewährleisten.

F4: Können Sie eine langfristige Projektversorgung gewährleisten?
A4: Ja, wir unterstützen batchbasierte, stabile Liefervereinbarungen entsprechend den Projektzyklen.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir konzentrieren uns auf die Forschung und Entwicklung sowie die stabile Lieferung von Multimetall-Sputter-Targets mit einem vollständigen Qualitätskontrollprozess und ausgereiften Anpassungsmöglichkeiten. Wir können unseren Kunden zuverlässige, rückverfolgbare Target-Lösungen anbieten, die für die wissenschaftliche Forschung und die Anwendungsumsetzung geeignet sind und dazu beitragen, Dünnschichtprojekte effizient voranzutreiben.

Molekulare Formel: CoCrFeNi
Erscheinungsbild: Silber-grau-metallisch
Dichte: 8,0 g/cm³
Schmelzpunkt: 1.350 ℃.
Kristallstruktur: Flächenzentriert kubisch

Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.

Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.

Dokumente

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