ULPMAT

Hafniumborid

Chemical Name:
Hafniumborid
Formula:
HfB2
Product No.:
720500
CAS No.:
12007-23-7
EINECS No.:
234-500-7
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
720500ST001 HfB2 99.5% (Hf+Zr) Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
720500ST002 HfB2 99.5% (Hf+Zr) Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
720500ST003 HfB2 99.5% (Hf+Zr) Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
720500ST004 HfB2 99.5% (Hf+Zr) Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
720500ST001
Formula
HfB2
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
720500ST002
Formula
HfB2
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
720500ST003
Formula
HfB2
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
720500ST004
Formula
HfB2
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Sputtertargets aus Hafniumborid Übersicht

Hafnium-Borid sputtertargets sind Hochleistungsmaterialien, die speziell für Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt wurden. Mit einem Reinheitsgrad von 99,5 % bieten sie eine hervorragende Dichte und Härte, die eine gleichmäßige Abscheidung von Dünnschichten und eine starke Haftung gewährleisten, wodurch sie für eine Vielzahl von Hochtemperatur- und Hochdruckumgebungen geeignet sind.

Wir bieten Sputtertargets aus Hafniumborid in einer Vielzahl von Formen und Größen an, darunter runde, rechteckige und kundenspezifische Größen, um die spezifischen Anforderungen unserer Kunden zu erfüllen. Wir bieten auch einen umfassenden Kundendienst; bitte wenden Sie sich an kontaktieren Sie uns wenn Sie irgendwelche Fragen haben.

Produkt-Highlights

Reinheit: 99,5%
Hohe Dichte gewährleistet gleichmäßige Dünnschichtabscheidung
Hohe Härte und Festigkeit, geeignet für Umgebungen mit hohen Temperaturen und hohem Druck
Anpassbare Größen und Formen
Target Bonding verfügbar
Geeignet für Halbleiter, optische Beschichtungen, Luft- und Raumfahrt und andere Bereiche

Anwendungen für Sputtertargets aus Hafniumborid

Halbleiter: Aufgrund seiner hervorragenden Leitfähigkeit und thermischen Stabilität wird es häufig für die Abscheidung von Hochleistungsgeräten und optoelektronischen Materialien verwendet.
Optische Beschichtungen: Es wird zur Herstellung dünner Schichten mit hoher Härte und hohem Reflexionsvermögen verwendet und eignet sich besonders für Anwendungen wie optische Komponenten und Spiegel. Luft- und Raumfahrt: Der hohe Schmelzpunkt und die hohe Temperaturbeständigkeit von HfB₂ machen es zu einer hervorragenden Wahl für Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt und machen es zu einem geeigneten Material für Hochtemperaturschutz und thermische Abschirmung.
Elektrotechnik und Energie: Es eignet sich für die Abscheidung von elektronischen Hochleistungsgeräten, dünnen Solarschichten und anderen funktionalen Hochleistungsschichten.

Berichte

Wir bieten ein Analysezertifikat (COA), Sicherheitsdatenblatt (MSDS) und andere relevante Berichte mit jeder Lieferung. Wir unterstützen auch Tests durch Dritte, um die Qualität und Zuverlässigkeit unserer Produkte zu gewährleisten.

Molekulare Formel: HfB₂
Molekulargewicht: 190,08 g/mol
Äußeres Erscheinungsbild: Hartes Material mit silbrig-grauem Metallglanz
Dichte: Ungefähr 10,5 g/cm³ (nahe der theoretischen Dichte)
Schmelzpunkt: Ungefähr 3.250°C
Kristallstruktur: Hexagonal

Innere Verpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kisten zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.

Äußere Verpackung: Kartons oder Holzkisten, die je nach Größe und Gewicht ausgewählt werden.

SKU 720500ST Kategorie Marke:

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