Der Hauptvorteil des einzigartigen zylindrischen Designs des Rotationstargets ist die gleichmäßige Ausnutzung der Targetfläche durch die physikalische Rotation. Dieses Design optimiert nicht nur den Materialverbrauch während des Sputterns, sondern gewährleistet durch die kontinuierliche Rotation auch eine gleichmäßige Verteilung des abgeschiedenen Materials. Der Rotationsmechanismus des Zylinders ermöglicht es dem Sputterstrahl, einen gleichmäßigeren Erosionspfad auf der Targetoberfläche zu bilden, was die Ausnutzung des Targets erheblich verbessert und eine hohe Effizienz und Konsistenz des Dünnschichtabscheidungsprozesses gewährleistet.
Unser Portfolio an Drehzielen
Wir bieten ein umfassendes Sortiment an Drehzielen für eine Vielzahl von industriellen Anforderungen.
| Metall-Drehscheiben | Legierungs-Drehscheiben | Keramische Drehscheiben |
| Aluminium (Al) | Nickel-Chrom (NiCr) | Niobium-Oxid (Nb2O5) |
| Titan (Ti) | Wolfram-Titan (WTi) | Siliziumkarbid (SiC) |
| Kupfer (Cu) | Zink-Zinn (ZnSn) | Indium-Zinn-Oxid (ITO) |
| Molybdän (Mo) | Nickel-Eisen (NiFe) | Aluminiumdotiertes Zinkoxid (AZO) |
| Wolfram (W) | Silizium-Aluminium (SiAl) | Gallium-dotiertes Zinkoxid (GZO) |
| Silizium (Si) | Silizium-Aluminium-Zirkonium (SiAlZr) | Indium-Zinn-Oxid (ITO) |
Darüber hinaus bieten wir Verbund- und Spezial-Drehtargets an, die für die Halbleiter-, Photovoltaik- und Optikindustrie entwickelt wurden.
Rotationstargets im Vergleich zu planaren Targets
Target-Nutzung: Rotationstargets können dank ihres einzigartigen Drehmechanismus die Targetausnutzung auf über 70-80 % steigern. Planare Targets erreichen in der Regel nur eine Materialausnutzung von 40-50%.
Effizienz der Schichtabscheidung: Planare Targets eignen sich gut für die Abscheidung kleiner Flächen oder spezifischer Formen von Schichten, um bestimmte Leistungsanforderungen zu erfüllen. Rotationstargets zeigen deutliche Vorteile bei der gleichmäßigen Abscheidung von Schichten über große Flächen. Dies verbessert nicht nur die Abscheidungseffizienz, sondern gewährleistet auch die Gleichmäßigkeit und Konsistenz der Schichten, was für die Verbesserung der Produktqualität entscheidend ist.
Kosteneffizienz: Die niedrigeren Anschaffungskosten von Planar-Targets machen sie ideal für Anwendungen mit begrenztem Budget oder wenn die Gleichmäßigkeit der Schicht nicht entscheidend ist. Rotationstargets können trotz höherer Anfangsinvestitions- und Wartungskosten den Anwendern mehr Materialkosten ersparen und aufgrund ihrer hohen Materialausnutzung und Abscheidungseffizienz langfristig die Produktivität verbessern.
Was ist die Anwendung von Rotary Target?
Mit fortschrittlicher Metallurgie, strenger Qualitätskontrolle und maßgeschneiderter Technik optimieren unsere Rotationstargets die Effizienz Ihres Sputterprozesses und die Qualität Ihrer Schichten und ermöglichen Ihnen die Realisierung der nächsten Generation von Beschichtungen und Dünnschichtanwendungen.
