ULPMAT

ULPMAT ist ein professioneller Hersteller von Beschichtungsmaterialien, der sich auf die Lieferung von Sputtertargets und Aufdampfmaterialien höchster Qualität spezialisiert hat.

Wir bieten eine breite Palette von Sputtertargets an, darunter Metalle, Legierungen, Keramiken und kundenspezifische Verbundwerkstofftargets. Ganz gleich, ob Sie flache oder rotierende Targets benötigen, wir verfügen über das nötige Fachwissen, um ein breites Spektrum an Anwendungen abzudecken.

Produkt-Kategorien

Was sind Sputtering-Targets?

Sputtertargets sind Schlüsselmaterialien für das PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition). Sie dienen als Ausgangsatome, die beschossen und auf Substrate übertragen werden, um dünne Schichten zu bilden. Zu den Anwendungen gehören Halbleiter, Displays, Solarzellen und Präzisionsbeschichtungen.

Man kann sich das Verfahren wie einen mikroskopischen „Metalltransfer“ vorstellen, bei dem hochenergetische Ionen Atome aus einem festen Target herausschlagen und auf einer Substratoberfläche abscheiden.

Klassifizierung nach Material

  • Metall-Targets: Al, Ti, W, Si, etc.
  • Legierungs-Targets: Ti-Al, W-Mo, Cu-Zn
  • Keramische Targets: Al₂O₃, ZnO, ITO
  • Zusammengesetzte Targets: Nitride, Karbide, Sulfide

Sputtering Targets

Klassifizierung nach Form

  • Planare Ziele: Kreisförmig, rechteckig, Sonderformen
  • Rotierende Targets: Zylindrische Drehscheiben für höhere Materialausnutzung

Wie Sputtern funktioniert

1. Gas-Ionisierung: Argon wird in einem Vakuum ionisiert.

2. Ionenbombardement: Hochenergetische Ionen treffen auf die Zieloberfläche und schleudern Atome aus.

3. Dünnschichtabscheidung: Die ausgestoßenen Atome kondensieren auf dem Substrat und bilden einen Film.

Sputtering Process Diagram

Leistungsanforderungen

  • Reinheit: ≥99,9% zur Gewährleistung der Filmqualität
  • Dichte: Hohe Dichte reduziert Partikelkontamination
  • Gleichmäßige Zusammensetzung: Gewährleistet stabile Filmeigenschaften
  • Kristallstruktur: Beeinflusst die Sputtering-Effizienz
  • Maßgenauigkeit: Für zuverlässige Installation und Betrieb
  • Thermische und chemische Stabilität: Um rauen Bedingungen zu widerstehen

Herstellungsverfahren

  1. Schmelzen und Gießen: Für Metalle wie Al, Cu, Cr – kostengünstig, aber nicht ideal für reaktive oder hochschmelzende Materialien.

Casting Target Application

  1. Pulvermetallurgie (PM): Für Keramiken und komplexe Legierungen – hohe Reinheit und Dichte, weit verbreitet für ITO, ZnO, TiO₂-Targets.
  2. Heiß-Isostatisches Pressen (HIP): Für dichte, leistungsstarke Targets – ideal für Oxide, Boride und Keramiken.
  3. Spark-Plasma-Sintern (SPS): Schnelles Sintern für Labor- oder Spezialtargets – minimales Kornwachstum, hohe Retention.

HIP SPS Targets

  1. Kaltpressen + Heißsintern: Vereinfachtes Verfahren für die Herstellung von Standardtargets – geringere Kosten, gut geeignet für kleine bis mittlere Chargen.
Sputtering Target Types

Wichtige Eigenschaften

  • Hohe Reinheit
  • Hohe Dichte und gleichmäßige Struktur
  • Gute thermische und elektrische Leitfähigkeit
  • Korrosions- und Temperaturwechselbeständigkeit

Anwendungen

Halbleiter: Metallische und dielektrische Folien für ICs und Gehäuse

Anzeigen: LCD, OLED-Schichten einschließlich TCOs und Emitter

Solarzellen: Si- und CIGS-Schichten zur Verbesserung der Effizienz

Optik: AR-Beschichtungen, Filter, Spiegel

Luft- und Raumfahrt: Verschleißfeste, schützende Beschichtungen

Setzen Sie sich noch heute mit uns in Verbindung, um unser komplettes Angebot an Hochleistungs-Sputter-Targets kennenzulernen – und lassen Sie uns zusammenarbeiten, um außergewöhnliche Dünnschicht-Ergebnisse zu erzielen.

CONTACT US

KONTAKT US

Thermal Spray

Unsere Website wurde komplett überarbeitet