Bor Sputtering Targets werden aus hochreinem Bor hergestellt, das typischerweise dunkelgrau bis schwarz ist und einen metallischen Glanz sowie eine atomare Kristallstruktur aufweist. Mit ihrer hohen Härte, ihrem hohen Schmelzpunkt und ihrer hervorragenden chemischen Stabilität ermöglichen Bor-Targets die Abscheidung dichter, gleichmäßiger und gut haftender dünner Schichten.
Sie finden breite Anwendung in der Halbleiterindustrie, der Optoelektronik, der optischen Beschichtung und der Hartbeschichtung, einschließlich der Herstellung von Bor-Dünnschichten, Borid-Dünnschichten (wie B₄C, TiB₂, MoB₂) und Bor-dotierten Halbleiterschichten. Bor-Targets können in kreisförmigen, rechteckigen oder anderen kundenspezifischen Formen hergestellt werden, um verschiedenen Prozessanforderungen gerecht zu werden.
Hohe Reinheit: Standard ≥99,5%, ultrahohe Reinheit bis zu ≥99,9%
Ausgezeichnete physikalische Eigenschaften: Hoher Schmelzpunkt (~2076 °C), hohe Härte (Mohs ~9,3)
Starke chemische Stabilität: Beständig gegen Säuren und Laugen bei Raumtemperatur
Hervorragende Filmqualität: Produziert dichte, gleichmäßige Filme mit starker Haftung
Anpassbare Spezifikationen: Größe, Form und Reinheit auf Anfrage erhältlich
Halbleiterindustrie: Bor-Sputter-Targets werden für bordotierte Siliziumschichten und die Herstellung von P-Typ-Halbleitern verwendet
Optische Beschichtungen: Abriebfeste, hochtemperaturbeständige, antireflektierende Schichten
Harte Beschichtungen: Herstellung von Beschichtungen wie Borkarbid (B₄C) und Titandiborid (TiB₂)
Nuklearindustrie: Bor-Sputter-Targets werden für Dünnschichten mit hohem Neutronenabsorptionsvermögen verwendet
Verwenden Sie bei der Handhabung saubere Handschuhe oder Fingerlinge, um eine Kontamination zu vermeiden.
Lagern Sie das Produkt in einer versiegelten, feuchtigkeitsdichten Verpackung in einer kühlen, trockenen und sauberen Umgebung. Halten Sie es von starken Oxidationsmitteln, Halogenen und Quellen mechanischer Stöße fern.
Erscheinungsbild: Dunkelgrauer bis schwarzer Feststoff
Kristallstruktur: Atomarer Kristall, Mohs-Härte 9,3
Dichte: ~2,34 g/cm³ (kann je nach Sinterverfahren variieren)
Schmelzpunkt: 2076 °C
Chemische Stabilität: Reagiert bei Raumtemperatur nicht mit Sauerstoff oder verdünnten Säuren; reagiert heftig mit Halogenen und starken Oxidationsmitteln
Innere Verpackung: Vakuumversiegelt in antistatischen Polyethylenbeuteln
Außenverpackung: Stoßfester Karton oder Holzkiste mit Schaumstoffauskleidung
Standardlieferung: 1 Stück/Karton oder je nach Kundenwunsch
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