ULPMAT

Eisenmetall

Chemical Name:
Eisenmetall
Formula:
Fe
Product No.:
2600
CAS No.:
7439-89-6
EINECS No.:
231-096-4
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
2600ST001 Fe 99.95% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
2600ST002 Fe 99.95% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
2600ST003 Fe 99.95% Ø 50.8 mm x 25.4 mm Inquire
2600ST004 Fe 99.95% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
2600ST005 Fe 99.95% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
2600ST006 Fe 99.95% Ø 101.6 mm x 1.58 mm Inquire
2600ST007 Fe 99.95% Ø 203.2 mm x 2 mm Inquire
2600ST008 Fe 99.99% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
2600ST009 Fe 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
2600ST010 Fe 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
2600ST011 Fe 99.99% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
2600ST012 Fe 99.99% Ø 152.4 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
2600ST001
Formula
Fe
Purity
99.95%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
2600ST002
Formula
Fe
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
2600ST003
Formula
Fe
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8 mm x 25.4 mm
Product ID
2600ST004
Formula
Fe
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
2600ST005
Formula
Fe
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
2600ST006
Formula
Fe
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 1.58 mm
Product ID
2600ST007
Formula
Fe
Purity
99.95%
Dimension
Ø 203.2 mm x 2 mm
Product ID
2600ST008
Formula
Fe
Purity
99.99%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
2600ST009
Formula
Fe
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
2600ST010
Formula
Fe
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
2600ST011
Formula
Fe
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Product ID
2600ST012
Formula
Fe
Purity
99.99%
Dimension
Ø 152.4 mm x 6.35 mm

Eisenmetall-Sputtertarget Produktübersicht

Eisen
-Sputtertargets dienen als wichtiges Grundmaterial für die Herstellung funktionaler Dünnschichten durch physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) wie beispielsweise Magnetron-Sputtern. Ihre Hauptvorteile liegen in der außergewöhnlich hohen Metallreinheit und den hervorragenden ferromagnetischen Eigenschaften. Diese Targets werden vor allem in der Halbleiterfertigung, bei Display-Panels, in der Datenspeicherung und in der wissenschaftlichen Forschung eingesetzt, um nanoskalige Dünnschichten mit hervorragender Leitfähigkeit, Magnetismus und Stabilität aufzubringen.

Wir bieten verschiedene hochreine Eisenmetall
-Target-Materialien in runder, rechteckiger und anderen Spezifikationen an. Professionelle Bonding-Dienstleistungen mit sauerstofffreien Kupfer-Trägerplatten sind verfügbar, um die Wärmeableitung zu optimieren und die Sputterstabilität zu verbessern. Darüber hinaus unterstützen wir eine umfassende Anpassung von Abmessungen, Reinheit, Formen und sogar Legierungszusammensetzungen, um Ihren spezifischen Anforderungen an die Ausrüstungskammer und den Prozess gerecht zu werden. Bei Fragen können Sie sich
jederzeit an uns wenden
.

Produkt-Highlights

Ultrahohe Reinheit
Hohe Dichte
Hervorragende magnetische Eigenschaften
Professioneller Bonding-Prozess

Anwendungen von Eisen-Sputter-Targets

Halbleiter
und Mikroelektronik: Verwendung für die Abscheidung von Elektroden, Verbindungen und Barriereschichten bei der Herstellung integrierter Schaltkreise, um den Anforderungen der Miniaturisierung und hohen Leistung von Geräten gerecht zu werden.
Flachbildschirmtechnologie: Einsatz in der LCD-, OLED- und anderen Display-Produktion zur Herstellung präziser leitfähiger Schaltungen und kritischer Schichten in Dünnschichttransistoren (TFTs).
Datenspeicher und magnetische Geräte: Dient als Kernmaterial für die Herstellung magnetischer Aufzeichnungsmedien auf Festplattenplatten, verschiedenen Magnetköpfen und hochempfindlichen Magnetsensoren.
Pionierforschung und optische Beschichtung: Bietet hochreine Materialien für die Entwicklung neuer Materialien (z. B. spintronische Bauelemente) an Universitäten und Forschungsinstituten sowie funktionelle Beschichtungen für optische Komponenten.

Häufig gestellte Fragen

F1: Wie wird die Reinheit von Eisentargets gemessen? Welche Elemente werden hauptsächlich auf Verunreinigungen kontrolliert?
A1: Die Reinheit wird in der Regel in Prozent angegeben. Wir testen und kontrollieren wichtige Verunreinigungen – darunter Alkalimetalle, Schwermetalle und gasförmige Elemente (Sauerstoff, Stickstoff) – streng mit Präzisionsmethoden wie der Glimmentladungs-Massenspektrometrie (GD-MS), um die Einhaltung hochwertiger Anwendungsstandards sicherzustellen.

F2: Ist Eisen ein stark magnetisches Material?
A2: Ja. Der starke Magnetismus von Eisentargets kann Magnetfelder abschirmen und möglicherweise die Stabilität des Sputterplasmas beeinträchtigen.

F3: Warum müssen einige Eisentargets mit einer Trägerplatte (z. B. Kupfer) verbunden werden?
A3: Die Verbindung mit einer Trägerplatte mit hoher Wärmeleitfähigkeit ist von entscheidender Bedeutung. Sie leitet die beim Sputtern entstehende Wärme schnell ab und verhindert so Risse oder Verformungen des Targets durch lokale Überhitzung. Dies verbessert die Targetausnutzung und die Betriebssicherheit erheblich, insbesondere bei Hochleistungs-Sputterprozessen.

F4: Können Targets auf Eisenbasis mit nicht standardmäßigen Abmessungen oder speziellen Legierungszusammensetzungen individuell angepasst werden?
A4: Selbstverständlich. Wir verfügen über umfassende Prozesskapazitäten, von der Verhüttung und Schmiedung bis hin zur Präzisionsbearbeitung, sodass wir Targets jeder Größe und Form auf der Grundlage Ihrer bereitgestellten Zeichnungen individuell anpassen können.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden
Unterlagen
geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Dritten sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind auf hochreine Metallwerkstoffe spezialisiert und liefern nicht nur Produkte, sondern umfassende Lösungen. Dank unseres tiefgreifenden Verständnisses der Herausforderungen beim Sputtern ferromagnetischer Targets und unserer strengen End-to-End-Qualitätskontrolle – von der Rohstoffreinigung bis zur Endverpackung – stellen wir sicher, dass jedes Target eine außergewöhnliche und gleichbleibende Leistung aufweist.

Molekulare Formel: Fe
Molekulargewicht: 55.845 g/mol
Erscheinungsbild: Glänzend silber-weiß oder metallisch grau
Dichte: Ca. 7,86 – 7,87 g/cm³
Schmelzpunkt: Ca. 1538 °C
Siedepunkt: Ca. 2750 °C
Kristallstruktur: Körperzentriert kubisch (α-Fe) bei Raumtemperatur

Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.

Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.

Dokumente

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