Sputtertargets
aus Chrom-Aluminiumkarbid
sind Hochleistungswerkstoffe mit ausgezeichneter thermischer Stabilität und Oxidationsbeständigkeit, die für Hochtemperatur- und hochkorrosive Umgebungen geeignet sind. Sie werden häufig bei der Dünnschichtabscheidung und in fortschrittlichen Beschichtungstechnologien eingesetzt und finden breite Anwendung in der Elektronik, Luft- und Raumfahrt sowie Materialwissenschaft.
Wir bieten hochreine Cr2AlC-Sputter-Targets, die einen stabilen Betrieb in komplexen Beschichtungsprozessen gewährleisten. Bei spezifischen Produktanforderungen oder technischen Fragen können Sie sich
gerne an uns wenden
.
Hohe thermische Stabilität
Ausgezeichnete Oxidationsbeständigkeit
Präzise Targetgröße und -form
Gute elektrische Leitfähigkeit
Anpassbare Bonding-
und Trägerplatte
Geeignet für fortschrittliche Beschichtungen und Dünnschichtabscheidungen
Starke Anpassungsmöglichkeiten
Dünnschichtabscheidung:
Wird zur Abscheidung von Hochleistungs-Dünnschichten verwendet, insbesondere bei der Herstellung von Halbleiter- und optischen Bauelementen, um die Haltbarkeit und Funktionalität der Produkte zu verbessern.
Korrosionsschutzbeschichtungen:
Weit verbreitet in der Luft- und Raumfahrtindustrie als Korrosionsschutzbeschichtungen, bleiben sie auch unter extrem hohen Temperaturen und rauen Umgebungsbedingungen stabil und schützen die Geräte vor Korrosion.
Hartbeschichtungen:
Aufgrund seiner hohen Härte eignet sich Cr2AlC für Hartbeschichtungen auf Werkzeugen und Maschinen, wodurch deren Verschleißfestigkeit verbessert wird.
Elektronische Geräte:
In der Elektronikindustrie wird es als Beschichtungs- und Strukturmaterial für High-End-Komponenten verwendet, wodurch die Stabilität und Haltbarkeit der Geräte verbessert wird.
Fragen
F1: Was ist die maximale Betriebstemperatur des Chrom-Aluminiumkarbid-Sputterziels?
A1: Cr2AlC
-Sputterziele weisen eine ausgezeichnete Hochtemperaturleistung auf und können bei Temperaturen von bis zu 1000 °C stabil betrieben werden, wodurch sie für Anwendungen in Hochtemperaturumgebungen geeignet sind.
F2: Für welche Dünnschichtabscheidungsverfahren ist dieses Produkt geeignet?
A2: Geeignet für verschiedene Dünnschichtabscheidungsverfahren wie Magnetron-Sputtern und Ionen-Sputtern, die häufig bei der Herstellung von hochwertigen elektronischen Geräten und optischen
Dünnschichten eingesetzt werden.
F3: Ist das Chrom-Aluminiumkarbid-Sputtertarget oxidationsbeständig?
A3: Ja, es verfügt über eine ausgezeichnete Oxidationsbeständigkeit und kann über längere Zeiträume in Hochtemperatur- und korrosiven Umgebungen stabil eingesetzt werden.
F4: Wie hoch ist die elektrische Leitfähigkeit des Chrom-Aluminiumkarbid-Sputter-Targets?
A4: Ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit, geeignet für verschiedene elektronische und elektrische Anwendungen, gewährleistet eine stabile elektrische Leistung.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir sind auf die Forschung und Entwicklung sowie die Produktion von Hochleistungs-Sputter-Targets spezialisiert und verfügen über langjährige Branchenerfahrung und technologisches Know-how. Wenn Sie sich für uns entscheiden, erhalten Sie hochwertige Cr2AlC-Sputter-Targets, effiziente Anpassungsdienste und umfassenden technischen Support,
damit Sie Ihre Anwendungen erfolgreich umsetzen können.
Molekulare Formel: Cr₂AlC
Molekulargewicht: 151,99 g/mol
Erscheinungsbild: Graues Zielmaterial
Dichte: 6,1 g/cm³
Schmelzpunkt: ~1900 °C
Kristallstruktur: Hexagonal (MAX-Phase)
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte
