Vanadiumsilicid
-Sputter-Targets sind funktionale Targets, die eine hervorragende Leitfähigkeit mit hoher Temperaturstabilität kombinieren und für verschiedene physikalische Gasphasenabscheidungsverfahren geeignet sind. Diese Targets können zur Herstellung von Silicid-Dünnschichten mit einheitlicher Struktur und stabiler Leistung verwendet werden.
Wir bieten Vanadiumsilicid-Sputter-Targets in verschiedenen Größen, Formen und mit kontrollierter Dichte an. Bitte kontaktieren Sie uns
für maßgeschneiderte Lösungen und technischen Support.
Hohe Sputterstabilität
Dichtes und gleichmäßiges Target
Gute Filmleitfähigkeit
Zuverlässig für Hochtemperaturanwendungen
Anpassbare Struktur und Größe
Stabile Chargenkonsistenz
Herstellung leitfähiger funktionaler Dünnschichten:
Geeignet für die Herstellung leitfähiger funktionaler Dünnschichten, die für die Abscheidung von elektronischen Bauelementen und zugehörigen Funktionsschichten verwendet werden können.
Hochtemperatur-Beschichtungen für elektronische Materialien:
Dank seiner ausgezeichneten thermischen Stabilität können bei hohen Temperaturen stabile Funktionsbeschichtungen hergestellt werden, die den Anforderungen von Hochtemperatur-Elektronikanwendungen gerecht werden.
Modifizierung von Geräteoberflächen:
Durch Sputtern gebildete Vanadiumsilicid-Dünnschichten können die elektrischen Eigenschaften und die Betriebsstabilität von Geräteoberflächen verbessern.
Wissenschaftliche Forschung und Dünnschichtprozessforschung:
Dieses Target wird häufig in der Silizid-Dünnschicht- und Abscheidungsprozessforschung verwendet und eignet sich für Labor- und Pilotanwendungen.
F1: Welche Sputterverfahren eignen sich für Vanadiumsilizid-Sputter-Targets?
A1: Geeignet für DC- oder RF-Sputterverfahren, die eine gute Filmgleichmäßigkeit und -stabilität bieten.
F2: Wie wirkt sich die Targetsdichte auf die Filmleistung aus?
A2: Eine höhere Dichte trägt zur Verbesserung der Filmhaftung und der elektrischen Konsistenz bei.
F3: Ist dieses Target für kontinuierliches Sputtern geeignet?
A3: Unter geeigneten Kühl- und Prozessbedingungen kann es die Anforderungen für langfristiges kontinuierliches Sputtern erfüllen.
F4: Welche Vorsichtsmaßnahmen sollten bei der Verwendung getroffen werden?
A4: Es wird empfohlen, die Targetoberfläche sauber und trocken zu halten und die Sputterparameter entsprechend den Gerätebedingungen angemessen zu steuern.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Dritten sind auf Anfrage erhältlich
Wir verfügen über umfangreiche Erfahrung in der Herstellung von Silizid-Sputter-Targets und können zuverlässig Vanadiumsilizid-Sputter-Targets mit gleichbleibender Leistung liefern. Darüber hinaus bieten wir gezielte Unterstützung auf der Grundlage der Prozessanforderungen unserer Kunden, um eine hochwertige Dünnschichtabscheidung zu erzielen.
Molekulare Formel: VSi₂
Molekulargewicht: 86,95 g/mol
Erscheinungsbild: Silbrig-grauer Metallglanz, metallische Textur
Dichte: 4,76 g/cm³
Schmelzpunkt: 1890°C
Kristallstruktur: Hexagonal
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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