Calciumoxid
-Sputtertarg
sind hochleistungsfähige Keramik-Targets, die in der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) zum Einsatz kommen. Sie werden in erster Linie zur Abscheidung von Calciumoxidschichten mit einzigartigen Eigenschaften als Erdalkalimetalloxid verwendet und haben einen hohen Forschungs- und Anwendungswert in Spitzenbereichen wie Halbleiterbauelementen, optischen Beschichtungen und Oberflächenschutz.
Wir sind auf die Lieferung von hochreinen Calciumoxid-Sputter-Targets mit hoher Dichte spezialisiert. Präzise Maßbearbeitung und Trägerplattenverklebung
sind verfügbar, um Ihren spezifischen Geräte- und Prozessanforderungen gerecht zu werden. Für maßgeschneiderte Lösungen können
Sie sich
jederzeit an uns wenden
.
Ultrahohe Reinheit und theoretische Dichte
Ausgezeichnete chemische und thermische Stabilität
Präzise kontrollierte Mikrostruktur und Kristallorientierung
Geringer Verunreinigungsgehalt für intakte Filmeigenschaften
Halbleiter und Funktionsbauelemente:
Abgeschieden als Gate-Dielektrikum oder Pufferschichtmaterialien zur Untersuchung neuartiger Materialien mit hoher Dielektrizitätskonstante oder zur Grenzflächentechnik in Bauelementen mit Perowskit-Struktur.
Optische Filme und Beschichtungen:
Verwendung zur Herstellung von Antireflex-, Schutz- oder hochreflektierenden Filmen für bestimmte Wellenlängenbereiche (z. B. UV oder IR) zur Erforschung ihrer potenziellen Anwendungen in speziellen optischen Fenstern.
Oberflächentechnik und -schutz:
Abgeschieden als hochtemperaturbeständige Beschichtungen oder Diffusionsbarrieren zur Verbesserung der Stabilität von Metallsubstraten in extremen Umgebungen.
Grundlagenforschung in der Materialwissenschaft:
Dient als Modellmaterial oder Vorläufer zur Untersuchung von Wachstumsmechanismen und Grenzflächenphänomenen von Erdalkalimetalloxiden sowie deren neuartigen Funktionen in der Katalyse, Sensorik und anderen Bereichen.
F1: Ist Calciumoxid-Targetmaterial in Luft stabil? Wie sollte es gelagert werden?
A1: Calciumoxid reagiert leicht mit Feuchtigkeit und Kohlendioxid in der Luft, was zu einer Oberflächenzerstörung führt. Es muss langfristig in einer Vakuum- oder trockenen Inertgasumgebung gelagert werden. Vor der Verwendung kann eine Oberflächenreinigung oder -aktivierung erforderlich sein.
F2: Welche besonderen Prozessbedingungen sind in der Regel beim Sputtern mit diesem Target erforderlich?
A2: Da Calciumoxid ein isolierendes Material ist, muss der RF-Sputtermodus verwendet werden. Um Filme mit genauer Stöchiometrie zu erhalten, wird das reaktive Sputtern in der Regel in einer Argonatmosphäre mit einem geeigneten Sauerstoffgehalt durchgeführt. Eine präzise Steuerung der Substrattemperatur und der Abscheidungsrate ist ebenfalls erforderlich.
F3: Was sind die Hauptmerkmale von Calciumoxid-Filmen?
A3: Calciumoxid-Filme weisen eine hohe Dielektrizitätskonstante, eine große Bandlücke und eine ausgezeichnete thermische Stabilität auf. Ihre Eigenschaften hängen stark vom Abscheidungsprozess ab, wodurch die Herstellung verschiedener Funktionsmaterialien ermöglicht wird, die von Isolatoren bis zu Materialien mit Ionenleitfähigkeit reichen.
F4: Warum ist eine Verklebung für Calciumoxid-Targets erforderlich?
A4: Die Verklebung sorgt für Wärmeableitung und mechanische Unterstützung für spröde Keramik-Targets und verhindert so Risse während des Sputterns.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.
Wir sind auf die Forschung und Entwicklung sowie die Herstellung von hochleistungsfähigen Oxidkeramik-Targets spezialisiert und verfügen über ausgereifte und strenge technische Lösungen für die Herstellung, Verarbeitung und Lagerung hochreaktiver Materialien wie Calciumoxid. Wir stellen nicht nur sicher, dass die Targets bei der Auslieferung höchste Reinheit und Dichte aufweisen, sondern legen auch großen Wert auf ihre Stabilität und Zuverlässigkeit bei der späteren Verwendung.
Molekulare Formel: CaO
Molekulargewicht: 56,08 g/mol
Erscheinungsbild: Weißes festes Zielmaterial
Dichte: 3,34 g/cm³
Schmelzpunkt: 2.572 °C
Siedepunkt: 2.850 °C
Kristallstruktur: Flächenzentriert kubisch
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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