Magnesium Wismut

Übersicht über Magnesium-Wismut-Sputter-Targets

Magnesium-Wismut
-Sputter-Targets sind funktionelle Targets, die hauptsächlich aus intermetallischen Magnesium-Wismut-Verbindungen bestehen und zur Stabilisierung von Dünnschicht-Abscheidungsprozessen geeignet sind. Diese Targets werden hauptsächlich in der Forschung zu funktionellen Dünnschichten, thermoelektrischen Schichten und elektronischen Materialien eingesetzt.

Wir bieten Magnesium-Wismut-Verbindungs-Sputter-Targets in verschiedenen Größen, Dicken und mit kontrollierter Zusammensetzung an, was eine schnelle Auswahl und Angebotserstellung ermöglicht.

Produkt-Highlights

Stabile Zusammensetzung der intermetallischen Verbindung
Hohe Targetdichte, reibungsloser Sputterprozess
Gute elektrische Leitfähigkeit, hohe Abscheidungseffizienz
Hohe Oberflächenebenheit, gute Filmkonsistenz
Flexible Spezifikationen, kundenspezifische Bearbeitung möglich
Geeignet für Forschung und Kleinserienfertigung

Anwendungen von Magnesium-Wismut-Sputter-Targets

Funktionale Dünnschichtabscheidung: Kann zur Herstellung funktionaler Dünnschichten verwendet werden, die hohe Anforderungen an die Gleichmäßigkeit der Zusammensetzung und die Filmqualität erfüllen.
Forschung zu thermoelektrischen Dünnschichten: Im Bereich der thermoelektrischen Materialien eignet sich dieses Target für die entsprechende Filmabscheidung und unterstützt die Optimierung der Versuchsparameter und die Leistungsforschung.
Entwicklung elektronischer Materialien und Bauelemente: Kann zur Herstellung von Dünnschichten für elektronische Bauelemente und zugehörige Strukturen verwendet werden und verbessert die Filmstabilität und Wiederholbarkeit.
Wissenschaftliche Forschung und Prozessvalidierung: Geeignet für Universitäten und Forschungseinrichtungen zur Durchführung von Prozessvalidierungen und Pilotversuchen mit neuen Material-Dünnschichten.

Häufig gestellte Fragen

F1: Welche Art von Sputteranlagen eignet sich für Magnesium-Wismut-Sputter-Targets?
A1: Anpassbar an DC- oder RF-Sputteranlagen, geeignet für verschiedene experimentelle und industrielle Anlagen.

F2: Beeinflusst die Targetdichte die Filmqualität?
A2: Eine höhere Dichte führt zu einem stabileren Sputterprozess und trägt zu einer gleichmäßigen und dichten Schicht bei.

F3: Können die Targets entsprechend den Anforderungen der Geräte individuell angepasst werden?
A3: Ja, wir unterstützen die individuelle Bearbeitung von runden, quadratischen und anderen Sondergrößen.

F4: Welche Vorsichtsmaßnahmen sind bei der Lagerung von Targets zu beachten?
A4: Es wird empfohlen, die Targets in einer trockenen, versiegelten Umgebung zu lagern, um eine Oberflächenverunreinigung zu vermeiden, die die Leistung beeinträchtigen könnte.

Bericht

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind auf die Herstellung und Qualitätskontrolle von Sputtertargets aus intermetallischen Verbindungen spezialisiert und bieten stabile und zuverlässige Produkte sowie schnellen technischen Support, um unseren Kunden dabei zu helfen, ihre Anforderungen an die Dünnschichtherstellung effizient zu erfüllen.