Lithium-Nickel-Kobalt-Oxid

Übersicht über Lithium-Nickel-Kobalt-Oxid-Sputter-Targets

Lithium-Nickel-Kobalt-Oxid
-Sputter-Targets sind hochdichte, hochgradig gleichmäßige Funktionsmaterial-Targets, die bei der Herstellung von Dünnschichten und in wissenschaftlichen Forschungsexperimenten zum Einsatz kommen. Sie werden häufig in Kathodenschichten von Lithium-Ionen-Batterien, Festkörperbatterien und bei der Abscheidung von Funktionsbeschichtungen verwendet.

Wir bieten hochdichte, hochgradig einheitliche NMC-Sputter-Targets an, deren Größe, Dicke und Form ganz nach Kundenwunsch angepasst werden können. Kontaktieren Sie uns
für Muster oder maßgeschneiderte Lösungen!

Produkt-Highlights

Hohe Dichte sorgt für gleichmäßige Filmabscheidung
Stabile Kristallstruktur sorgt für zuverlässige Abscheidungsergebnisse
Anpassbare Größe, Dicke und Form
Unterstützt die Forschung und die industrielle Dünnschichtfertigung
Feine Oberflächenbeschaffenheit, geringe Fehlerquote
Schnelle Reaktion unseres technischen Teams

Anwendungen von Lithium-Nickel-Kobaltoxid-Sputter-Targets

Herstellung von Dünnschicht-Kathodenmaterial:
Wird für die Abscheidung von Hochleistungs-Lithium-Ionen-Batterie-Kathodenfilmen verwendet und verbessert die Zyklusstabilität und die elektrochemische Leistung.
Festkörperbatterien:
Unterstützt die Dünnschichtabscheidung von Festkörperbatterien und gewährleistet die Gleichmäßigkeit der Grenzfläche und die Ionenleitfähigkeit.
Funktionelle Beschichtungen:
Wird für die hochpräzise Dünnschichtherstellung in optoelektronischen Geräten, Sensoren und mikroelektronischen Strukturen verwendet und gewährleistet dichte und gleichmäßige Schichten.

Häufig gestellte Fragen

F1: Welche Abscheidungsverfahren eignen sich für NMC-Sputter-Targets?
A1: Geeignet für Magnetron-Sputtern, Elektronenstrahlverdampfung und andere herkömmliche PVD-Verfahren.

F2: Können die Größe und Dicke des Targets angepasst werden?
A2: Ja, je nach den Anforderungen der Kundenausrüstung sind verschiedene Spezifikationen verfügbar.

F3: Wie ist die Gleichmäßigkeit der abgeschiedenen Schicht?
A3: Die Dichte des Targets und die optimierte Kristallstruktur gewährleisten eine hohe Gleichmäßigkeit der Schicht und Kristallqualität.

F4: Ist die Fehlerquote der Targetoberfläche hoch?
A4: Die Targetoberfläche ist präzisionspoliert, was zu einer geringen Fehlerquote führt und für die hochpräzise Dünnschichtfertigung geeignet ist.

Berichte

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Dank unserer langjährigen Erfahrung in der Herstellung von Sputtertargets für Funktionsmaterialien können wir maßgeschneiderte, hochwertige NMC-Sputtertargets anbieten, um die Stabilität und Effizienz der Dünnschichtabscheidung in der wissenschaftlichen Forschung und in industriellen Anwendungen zu gewährleisten. Unser technisches Team bietet schnelle Reaktionszeiten und professionellen Support, um Kunden bei der Herstellung hochpräziser Dünnschichten zu unterstützen.