Sputtertargets
aus Titanoxid
gehören zur Magnéli-Phase und verbinden die Leitfähigkeit von Metallen mit der Hochtemperaturbeständigkeit von Keramiken. Diese Targets werden in erster Linie zur Herstellung von funktionalen Dünnschichten mit hoher Leitfähigkeit, Hochtemperaturbeständigkeit und struktureller Stabilität verwendet und finden breite Anwendung in elektronischen Geräten, leitfähigen Keramiken und der Entwicklung wissenschaftlicher Dünnschichtmaterialien.
Wir können dichte, in ihrer Zusammensetzung einheitliche Ti4O7-Sputtertargets liefern, die für DC- oder RF-Magnetron-Sputteranlagen geeignet sind. Je nach den Anforderungen der Kundenanlagen können verschiedene Größen und Verarbeitungsmethoden angeboten werden, um den Anforderungen der wissenschaftlichen oder industriellen Dünnschichtfertigung gerecht zu werden. Kontaktieren Sie uns
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Magnéli-Phase Titansuboxid-Struktur
Hohe Leitfähigkeit, geeignet für Magnetron-Sputtern
Ausgezeichnete thermische Stabilität und Temperaturwechselbeständigkeit
Stabile Zusammensetzung während des Sputterns, gute Wiederholbarkeit der Schicht
Geeignet für die Abscheidung bei hohen Temperaturen, im Vakuum und in inerter Atmosphäre
Kann für die Herstellung von funktionalen und strukturellen Dünnschichten verwendet werden
Abscheidung funktionaler Dünnschichten:
Kann zur Herstellung hochleitfähiger, hochtemperaturbeständiger funktionaler Dünnschichten verwendet werden, die für elektronische Geräte und spezielle Beschichtungsanwendungen geeignet sind.
Leitfähige Keramik und Verbunddünnschichten:
Dank seiner hohen Leitfähigkeit und Stabilität können leitfähige Keramik- und Verbunddünnschichtmaterialien hergestellt werden.
Wissenschaftliche Forschung und Materialentwicklung:
Weit verbreitet in der Forschung und Entwicklung von Magnéli-Phasen-Materialien, leitfähigen Oxid-Dünnschichten und neuartigen funktionalen Dünnschichten.
Hochtemperatur-korrosionsbeständige Beschichtungen:
Ti4O7-Dünnschichten zeigen eine stabile Leistung in Hochtemperatur- oder korrosiven Umgebungen und können für die Forschung an hitzebeständigen oder schützenden Beschichtungen verwendet werden.
F1: Für welche Sputtermethode ist das Titansuboxid-Sputtertarget geeignet?
A1: Es eignet sich sowohl für DC- als auch für RF-Magnetron-Sputteranlagen und weist eine ausgezeichnete Leitfähigkeit und Anpassungsfähigkeit an verschiedene PVD-Prozesse auf.
F2: Ist die Zusammensetzung des Ti₄O₇-Targets während des Sputterns stabil?
A2: Unter geeigneten Prozessparametern behält das Target eine stabile Zusammensetzung bei, was zu einer guten Wiederholbarkeit und Konsistenz der Schicht führt.
F3: Kann das Target hohen Sputterbedingungen standhalten?
A3: Ja, das Target verfügt über eine ausgezeichnete thermische Stabilität und Temperaturwechselbeständigkeit, wodurch es für die langfristige Abscheidung bei hohen Temperaturen geeignet ist.
F4: In welchen Forschungsbereichen werden Ti₄O₇-Dünnschichten typischerweise eingesetzt?
A4: Hauptsächlich für leitfähige Oxid-Dünnschichten, funktionelle Keramik-Dünnschichten, Hochtemperaturbeschichtungen und die Forschung an Magnéli-Phasen-Materialien.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.
Wir konzentrieren uns auf die Forschung und Entwicklung sowie die Lieferung von Funktionskeramiken und Hochleistungs-Sputtertargets und stellen sicher, dass Ti₄O₇-Sputtertargets den wissenschaftlichen und industriellen Standards in Bezug auf Materialstruktur, Verdichtung und Sputterkompatibilität entsprechen, wodurch eine zuverlässige Garantie für die Dünnschichtherstellung geboten wird.
Molekulare Formel: Ti₄O₇
Molekulargewicht: 303,62 g/mol
Erscheinungsbild: Schwarzes Zielmaterial
Dichte: Ungefähr 4,0 g/cm³
Kristallstruktur: Monoklin
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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