Niob-Chrom-Legierung

Übersicht über Sputtertargets aus Niob-Chrom-Legierung

Sputtertargets
aus Niob-Chrom-Legierung
sind Sputtermaterialien, die eine ausgezeichnete mechanische Stabilität, elektrische Eigenschaften und Hochtemperaturkorrosionsbeständigkeit vereinen. Sie werden häufig zur Herstellung von hochhaftenden, verschleißfesten und funktionalen Dünnschichtbeschichtungen verwendet. Sie werden in erster Linie für die Abscheidung von hochwertigen funktionalen Dünnschichten, die Oberflächentechnik und die Folienherstellung für elektronische Geräte eingesetzt.

Wir können verschiedene NbCr-Legierungsverhältnisse herstellen, um verschiedene Strukturen zu unterstützen. Unsere Produkte werden einer Verdichtungsbehandlung und einer Feinkornkontrolle unterzogen, wodurch sie für Magnetron-Sputtern, RF-Sputtern und die industrielle Serienfertigung von Beschichtungen geeignet sind. Für die aktuellen Preise für NbCr-Targets kontaktieren Sie uns
bitte.

Produkt-Highlights

Hochdichtes Legierungstarget
Anpassbare Verhältnisse
Stabile Sputterrate
Ausgezeichnete Hochtemperaturbeständigkeit
Hochgradig gleichmäßige Dünnschichtabscheidung
Geringe Oxidation und geringer Verunreinigungsgehalt
Geeignet für langfristige kontinuierliche Beschichtung

Anwendungen von Sputtertargets aus Niob-Chrom-Legierungen

Hartbeschichtung: Wird für die Abscheidung verschleißfester Beschichtungen auf Werkzeugen, Formen und mechanischen Teilen verwendet.

Elektronische Dünnschichtanwendungen: Wird für die Herstellung von Funktionsschichten wie mikroelektronischen Bauelementen und Barriereschichten verwendet.

Optische
Dünnschichttechnik: Geeignet für die Abscheidung von hochstabilen optischen Dünnschichten und Schutzschichten.

Industrielle Beschichtungsproduktion: Wird in kontinuierlichen Sputterprozessen in großflächigen Beschichtungsanlagen verwendet.

Häufig gestellte Fragen

F1: Wie wird das NbCr-Target verpackt?

A1: Das Target wird mit stoßdämpfendem Schaumstoff vakuumversiegelt und in einer harten Holz- oder Metallbox verpackt, um sicherzustellen, dass es während des Transports nicht zerkratzt wird und keine Feuchtigkeit eindringt.

F2: Welche Verarbeitungsmethoden unterstützt dieses Target?

A2: Wir können verschiedene Verarbeitungsmethoden anbieten, darunter heißisostatisches Pressen (HIP), Gießen, Pulvermetallurgie, maschinelle Bearbeitung und Backplane-Bonding, um die Schnittstellenanforderungen verschiedener Geräte zu erfüllen.

F3: Sind die Lagerungsanforderungen für Niob-Chrom-Targets hoch?

A3: Es wird empfohlen, das Target in einer trockenen, sauberen Umgebung zu lagern und hohe Luftfeuchtigkeit und korrosive Gase zu vermeiden, um den Zustand der Oberfläche und die langfristige Stabilität des Targets zu erhalten.

F4: Welchen Reinheitsgrad bieten Sie für Ihre Targets? A4: Wir können je nach Kundenanforderungen einen Reinheitsgrad von 99,9 % erreichen, mit strenger Kontrolle der Verunreinigungen, geeignet für sensible Anwendungen wie High-End-Optoelektronik und Halbleiter.

Berichte

Jede Charge wird mit
folgenden Unterlagen
geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Dritten sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Langjährige Erfahrung in der Herstellung von Metall-Sputter-Targets
Präzise Kontrolle der Legierungszusammensetzung und Mikrostruktur
Strenge Qualitätskontrolle gewährleistet Filmstabilität
Schnelle Lieferfähigkeit, geeignet für Forschung und Massenproduktion
OEM/ODM-Anpassungsunterstützung

Zuverlässige internationale Logistik-Erfahrung, geeignet für globale Kunden
Professioneller technischer Support
von der Beratung bis zum Kundendienst