Yttriumoxid-stabilisiertes Zirkoniumdioxid (YSZ)

Übersicht über Yttriumoxid-stabilisierte Zirkonoxid-Sputtertargets

Yttriumoxid-stabilisierte Zirkonoxid
-Sputtertargets sind hochreine Seltenerdoxid-Verbundwerkstoffe, die häufig bei der Herstellung von optischen Dünnschichten, Keramikbeschichtungen und Funktionsmaterialien verwendet werden.

Wir bieten Y2O3-ZrO2-Sputter-Targets in verschiedenen Größen, Verhältnissen und Reinheitsgraden an, die für die Forschung und die industrielle Herstellung von Dünnschichten geeignet sind. Ob für Keramikbeschichtungen, optische Folien oder die Entwicklung von Funktionsmaterialien – wir bieten maßgeschneiderte Dienstleistungen und technischen Support. Kontaktieren Sie uns
für Lösungen und Angebote.

Produkt-Highlights

Hohe Reinheit, geringer Gehalt an Verunreinigungen
Gleichmäßige Dichte, dichte Struktur
Hohe chemische Stabilität
Ausgezeichnete thermische Stabilität
Einfaches Vakuum-Sputterverfahren
Hohe Chargenkonsistenz
Optionale Verbindungs- und Trägerplatten
Anpassbare Größen und Proportionen

Anwendungen von Yttrium-stabilisierten Zirkoniumoxid-Sputter-Targets

Herstellung
optischer
Dünnschichten: Zur Herstellung von optischen Filmen mit hoher Durchlässigkeit und hoher Stabilität.
Keramikbeschichtungen: Verbessert die Verschleißfestigkeit und thermische Stabilität von Keramikoberflächen.
Abscheidung von Funktionsmaterialien: Wird für die Herstellung von Dünnschichten in elektronischen und optoelektronischen Geräten verwendet.
Materialien für die wissenschaftliche Forschung: Bereitstellung hochreiner, gleichmäßiger Sputtertargets für die materialwissenschaftliche Forschung.

Häufig gestellte Fragen

F1: Kann das Y2O3-ZrO2-Verhältnis des Targets angepasst werden?
A1: Ja, wir können je nach Kundenwunsch unterschiedliche Y2O3-ZrO2-Verhältnisse anbieten, um unterschiedlichen Anforderungen an die Dünnschichtleistung gerecht zu werden.

F2: Für welche Sputterprozesse sind die Targets geeignet?
A2: Geeignet für verschiedene Sputterprozesse, einschließlich DC-, RF- und Magnetron-Sputtern.

F3: Wie werden die Dichte und Kompaktheit des Targets gewährleistet?
A3: Das Target wird einer Hochtemperatursinterung und einer strengen Qualitätskontrolle unterzogen, was zu einer gleichmäßigen Dichte und einer kompakten Struktur führt und die Stabilität während des Sputterprozesses gewährleistet.

F4: Können Größe und Form des Targets individuell angepasst werden?
A4: Wir können runde, quadratische und unregelmäßig geformte Targets anbieten. Die Größen werden entsprechend den Kundenanforderungen angepasst, um sie an verschiedene Sputteranlagen anzupassen.

Berichte

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind auf die Herstellung von hochreinen Y2O3-ZrO2-Sputter-Targets spezialisiert, unterziehen diese einer strengen Qualitätskontrolle und bieten maßgeschneiderte Dienstleistungen und technischen Support, um eine stabile Target-Leistung zu gewährleisten und den Anforderungen der wissenschaftlichen Forschung und der industriellen Dünnschichtfertigung gerecht zu werden.