Strontium-Titanat (Strontium-Titan-Oxid)

Strontium-Titanoxid-Sputtertargets – Übersicht

Strontium-Titanoxid
-Sputtertargets sind hochreine Keramiktargets mit ausgezeichneter thermischer Stabilität, chemischer Inertheit und gleichmäßigen elektrischen Eigenschaften. Sie werden häufig bei der Abscheidung elektronischer Dünnschichten, in funktionalen Oxidbauelementen und bei der Herstellung von Hochleistungs-Keramikbeschichtungen eingesetzt.

Wir bieten SrTiO3-Sputter-Targets in verschiedenen Spezifikationen, Größen und Reinheitsgraden an, um den Anforderungen von DC-, RF- und Magnetron-Sputteranlagen gerecht zu werden. Bitte kontaktieren Sie uns
für Muster oder kundenspezifische Dienstleistungen.

Produkt-Highlights

Hohe Reinheit
Hohe Dichte, geringe Porosität
Gute Anpassung des Wärmeausdehnungskoeffizienten
Gleichmäßige elektrische und optische Eigenschaften
Geeignet für DC-/RF-/Magnetron-Sputtern
Hohe Stabilität, lange Lebensdauer
Unterstützt Target-Bonding
Anpassbare Größen und Formen
Gute Chargenkonsistenz

Anwendungen von Strontiumtitanat-Sputter-Targets

Elektronische Dünnschichtabscheidung: Wird zur Herstellung hochwertiger SrTiO3-Dünnschichten verwendet, um die Leistung und Stabilität von Bauelementen zu verbessern.
Funktionale Oxidbauelemente: Kann für die Dünnschichtfertigung von mehrschichtigen Oxidkondensatoren, Widerständen und Sensormaterialien verwendet werden.
Keramikbeschichtungen: Als keramisches Beschichtungsmaterial verbessert es die mechanische Festigkeit und thermische Stabilität.
Entwicklung wissenschaftlicher Materialien: Bietet eine gleichmäßige und zuverlässige Abscheidungsgrundlage für die Forschung und Entwicklung ferroelektrischer, piezoelektrischer und optoelektronischer Materialien.

Häufig gestellte Fragen

F1: Können SrTiO3-Sputter-Targets direkt in allen Arten von Sputteranlagen verwendet werden?
A1: Dieses Target eignet sich für Gleichstrom-, Hochfrequenz- und Magnetron-Sputtern, aber bitte wählen Sie die geeigneten Spezifikationen entsprechend der Anlagenleistung und den Vakuumbedingungen aus.

F2: Beeinflussen die Dichte und Porosität des Targets den Abscheidungseffekt?
A2: Ja, eine hohe Targetdichte und eine geringe Porosität gewährleisten eine gleichmäßige Abscheidung und eine stabile Sputterrate, wodurch die Filmqualität verbessert wird.

F3: Welche Vorsichtsmaßnahmen sollten beim Transport und bei der Lagerung des Targets getroffen werden?
A3: Es sollte in einer trockenen, lichtgeschützten und stoßfesten Umgebung gelagert werden, um Feuchtigkeit und mechanische Beschädigungen zu vermeiden.

F4: Wie kann eine gleichbleibende Leistung zwischen verschiedenen Chargen von Targets sichergestellt werden?
A4: Jede Charge von Sputter-Targets wird strengen Tests hinsichtlich der chemischen Zusammensetzung und Dichte unterzogen, um gleichbleibende Abmessungen, Dichte und Sputterleistung zu gewährleisten.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir verfügen über ausgereifte Produktionsprozesse für SrTiO3-Sputter-Targets und ein strenges Qualitätskontrollsystem, das hochreine, hochdichte und stabile Targets sowie professionelle technische Dienstleistungen gewährleistet. Dies gewährleistet eine zuverlässige Anwendung unserer Materialien bei der Dünnschichtvorbereitung und der Entwicklung funktionaler Geräte und macht uns zum bevorzugten Partner für Forschung und industrielle Anwendungen.