Gallium-Eisenoxid
ist ein multiferroisches funktionelles Keramikmaterial mit einzigartigen magnetoelektrischen Kopplungseigenschaften, bei denen seine magnetischen Eigenschaften durch elektrische Felder und seine elektrischen Eigenschaften durch Magnetfelder gesteuert werden können. Dieses Targetmaterial wird hauptsächlich in Magnetron-Sputterprozessen zur Abscheidung hochwertiger GaFeO₃-Dünnschichten verwendet. Solche Schichten haben ein erhebliches Anwendungspotenzial in multifunktionalen Sensoren der nächsten Generation, nichtflüchtigen Speichern und spintronischen Bauelementen.
Wir bieten hochreine, hochdichte Ferrit-Gallium-Keramik-Sputtertargets in mehreren Standardgrößen mit Anpassungsoptionen an. Kontaktieren Sie uns
für maßgeschneiderte Lösungen.
Hohe Reinheit
Präzise stöchiometrische Verhältnisse
Hohe Dichte bei geringer Porosität
Hervorragende Mikrostruktur-Homogenität
Professionelle Backing-Plate-Bonding
-Dienstleistungen
Fortschrittliche Sensoren: Nutzung des magnetoelektrischen Kopplungseffekts zur Herstellung hochempfindlicher Magnet- oder Elektrifeldsensoren.
Informationsspeicherung: Verwendung bei der Entwicklung neuartiger mehrphasiger nichtflüchtiger Speicher und spintronischer Logikbauelemente.
Integrierte optische
und Mikrowellenbauelemente: Abgeschiedene optische Wellenleiterfilme für die optische Kommunikation und abstimmbare Mikrowellenbauelemente.
Pionierforschung: Dient als wichtiges Dünnschichtmaterial für Grundlagen- und Anwendungsstudien in der ferroelektrischen Physik und bei Heteroübergangsbauelementen.
F1: Was sind die wesentlichen Vorteile von GaFeO3-Targets?
A1: Ihr Hauptvorteil liegt in der Ferroelektrizität und der magnetoelektrischen Kopplung, die eine doppelte Regelung und Umwandlung von elektrischen und magnetischen Signalen ermöglichen.
F2: Welche Reinheitsanforderungen gelten für dieses Keramik-Target?
A2: Eine hohe Reinheit ist unerlässlich. Die Filmleistung ist empfindlich gegenüber Verunreinigungen; wir bieten Produkte mit einer Reinheit von über 99,9 %, um die Leistung zu gewährleisten.
F3: Wie sollte das Target gelagert und gepflegt werden?
A3: In einem versiegelten, feuchtigkeitsbeständigen Behälter in einer trockenen Umgebung lagern. Aufgrund seiner Sprödigkeit vorsichtig handhaben, um Risse durch Stöße zu vermeiden.
F4: Ist vor der Verwendung ein Vorsputtern erforderlich?
A4: Ja. Durch das Vorsputtern wird die Target-Oberfläche gereinigt und potenzielle Oxide oder Verunreinigungen werden entfernt, um eine reine Filmzusammensetzung und eine stabile Abscheidung zu gewährleisten.
Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir sind auf die Lieferung von hochleistungsfähigen Spezialkeramik-Targets spezialisiert und bieten Ihnen fachkundige technische Unterstützung
, um Ihren Erfolg in der Forschung und Entwicklung von hochmodernen Funktionsfilmen sicherzustellen.
Molekulare Formel: GaFeO₃
Molekulargewicht: 187,88 g/mol
Erscheinungsbild: Braunes bis dunkelbraunes keramisches Target
Dichte: Ca. 5,2 g/cm³
Schmelzpunkt: Ca. 1.500 °C (erweicht vor der Zersetzung)
Kristallstruktur: Orthorhombisch
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte
