Sputtertargets aus
Kupfer-Aluminiumoxid
sind hochreine Metalloxid-Targets, die in erster Linie für die Herstellung von optoelektronischen Dünnschichten, leitfähigen Schichten und funktionellen Beschichtungen verwendet werden, um gleichmäßige Schichten und eine stabile Leistung zu erzielen.
Wir bieten Sputtertargets aus Kupfer-Aluminiumoxid mit unterschiedlichen Zusammensetzungsverhältnissen, Größen und Reinheitsgraden an. Kundenspezifische Bearbeitung und technische Beratung werden unterstützt. Bitte kontaktieren Sie uns
für Lösungen.
Hohe Reinheit
Hohe Gleichmäßigkeit der Zusammensetzung
Stabile Filmabscheidung
Geringe Verunreinigungen, chemisch stabil
Zuverlässige Leitfähigkeit und optische Eigenschaften
Kompatibel mit verschiedenen Sputteranlagen
Unterstützt kundenspezifische runde, quadratische und unregelmäßige Formen sowie Verklebungen
Dünnschichten
für Halbleiter
und elektronische Bauelemente: Werden für die Abscheidung von leitfähigen und funktionellen Schichten in elektronischen Bauelementen verwendet, um die Gleichmäßigkeit der Schichten und die Leistung der Bauelemente zu verbessern.
Optoelektronische
Geräte und Anzeigegeräte: Wird in OLED-, LCD- und Touch-Displays verwendet, um gleichmäßige leitfähige Schichten mit hoher Transparenz zu gewährleisten.
Funktionale Beschichtungen und industrielle Schichten: Geeignet für die Abscheidung von leitfähigen, korrosionsbeständigen oder optisch funktionalen Schichten, wodurch die zusätzlichen Eigenschaften von Industriematerialien verbessert werden.
F1: Ist das Sputtern von Kupferaluminiumoxid (CA) für Gleichstrom- oder Hochfrequenz-Sputtern geeignet?
A1: CA ist ein isolierendes oder halbleitendes Material, und HF-Sputtern wird im Allgemeinen empfohlen, um stabile Schichten zu erhalten.
F2: Beeinflusst das Zusammensetzungsverhältnis des Sputtertargets die Abscheidungsleistung?
A2: Ja, unterschiedliche Kupfer-Aluminium-Verhältnisse beeinflussen die Leitfähigkeit, die optischen Eigenschaften und die Abscheidungsrate der Schicht. Das geeignete Verhältnis sollte auf der Grundlage der Prozessanforderungen ausgewählt werden.
F3: Können Größe und Form des Sputter-Targets an unterschiedliche Geräte- und Prozessanforderungen angepasst werden?
A3: Ja, wir bieten maßgeschneiderte runde, quadratische und unregelmäßig geformte Sputter-Targets an, die auf unterschiedliche Sputter-Geräte und Prozessanforderungen abgestimmt sind.
F4: Welche Vorsichtsmaßnahmen sollten bei der Lagerung und Handhabung des Sputter-Targets getroffen werden?
A4: Es wird empfohlen, das Target in einer trockenen Umgebung aufzubewahren, starke Stöße zu vermeiden und den Kontakt mit Wasser oder sauren/alkalischen Substanzen zu verhindern, um die Unversehrtheit des Targets zu gewährleisten.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir konzentrieren uns auf die Forschung und Entwicklung sowie die Lieferung von hochreinen Sputtertargets aus Funktionsmaterialien, kontrollieren streng die Gleichmäßigkeit der Zusammensetzung, die Chargenstabilität und die Filmabscheidungsleistung und bieten zuverlässige und rückverfolgbare Sputtertargets aus Kupfer und Aluminiumoxid für die wissenschaftliche Forschung, die Industrie und optoelektronische Geräte.
Chemische Formel: CuAlO₂
Molekulargewicht: 143,06 g/mol
Erscheinungsbild: Rotes bis bräunlich-rotes, dichtes Zielmaterial
Schmelzpunkt: Ca. 1.290 °C
Kristallstruktur: Trigonal
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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