Sputtertargets
aus Kupfer-Chrom-Legierungen
sind Legierungstargets, die Leitfähigkeit und Hitzebeständigkeit in Einklang bringen und vor allem in physikalischen Gasphasenabscheidungsverfahren für elektronische Geräte und funktionelle Dünnschichten verwendet werden.
Wir bieten Sputtertargets mit unterschiedlichen Kupfer-Chrom-Verhältnissen und in verschiedenen Größen an und unterstützen kundenspezifische Verarbeitung und technische
Zusammenarbeit. Bitte kontaktieren Sie uns
für detaillierte Lösungen.
Gleichmäßige Verteilung der Legierungszusammensetzung
Stabile Leitfähigkeit
Hohe Temperatur- und Sputterbeständigkeit
Hohe Oberflächendichte des Targets
Gute Filmhaftung
Kompatibel mit verschiedenen Sputtersystemen
Unterstützt runde, rechteckige und unregelmäßige Formen
Halbleiterverbindungen und funktionelle Dünnschichten: Werden zum Aufbringen von leitfähigen oder funktionellen Metallfilmen verwendet, um die Anforderungen an Stabilität und Konsistenz von integrierten Schaltkreisen zu erfüllen.
Elektrische Kontakte und verschleißfeste Beschichtungen: Wird in elektrischen Kontaktmaterialien und verschleißfesten Filmen verwendet, um Leitfähigkeit und Lebensdauer in Einklang zu bringen.
Industrieller Schutz und funktionelle Beschichtungen: Geeignet für die Herstellung von hitzebeständigen, korrosionsbeständigen oder zusammengesetzten funktionellen Dünnschichten, die die Oberflächeneigenschaften von Industriekomponenten verbessern.
Wissenschaftliche Forschung und Dünnschichtverarbeitung: Weit verbreitet in der Erforschung neuartiger Legierungsdünnschichten und Materialeigenschaften, um die Wiederholbarkeit von Experimenten und die Kontrollierbarkeit der Schichten zu gewährleisten.
F1: Was sind die Vorteile von CuCr-Targets gegenüber reinen Kupfer-Targets?
A1: Durch die Zugabe von Chrom werden die Hitzebeständigkeit und die Migrationsbeständigkeit deutlich verbessert, wodurch die Schicht unter Hochtemperaturbedingungen stabiler wird.
F2: Ist dieses Legierungs-Target für DC- oder RF-Sputtern geeignet?
A2: Aufgrund der guten Leitfähigkeit der Legierung ist DC-Sputtern in der Regel ausreichend, um stabile Abscheidungsergebnisse zu erzielen.
F3: Beeinflusst das Kupfer-Chrom-Verhältnis die Filmleistung?
A3: Ja, unterschiedliche Komponentenverhältnisse beeinflussen den spezifischen Widerstand, die Härte und die Hitzebeständigkeit des Films. Das geeignete Verhältnis sollte je nach Anwendung ausgewählt werden.
F4: Muss das Target vor der Verwendung vorbehandelt werden?
A4: Im Allgemeinen ist keine komplexe Behandlung erforderlich; eine einfache Reinigung ist ausreichend. Bei der ersten Verwendung kann eine kurze Vorsputterzeit durchgeführt werden, um die Targetoberfläche zu stabilisieren.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir konzentrieren uns seit langem auf die Herstellung und Qualitätskontrolle von Sputtertargets aus Legierungen. Von der Rohstoffdosierung bis hin zu den Verdichtungsprozessen der Targets kontrollieren wir streng alle Aspekte, um sicherzustellen, dass unsere Targets aus Kupfer-Chrom-Legierungen den Anforderungen der wissenschaftlichen Forschung und industriellen Anwendungen in Bezug auf Filmkonsistenz, Stabilität und Chargenzuverlässigkeit entsprechen.
Chemische Formel: CuCr
Erscheinungsbild: Dichtes Zielmaterial, Gelbes Zielmaterial
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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