Kupferiodid
-Sputtertargets sind typische Kupferhalogenid-Funktionsmaterialien, die in erster Linie zur Herstellung transparenter leitfähiger Schichten und neuartiger optoelektronischer Funktionsschichten verwendet werden.
Wir können Kupferiodid-Sputtertargets in verschiedenen Größen, Formen und Reinheiten entsprechend den Kundenanforderungen liefern. Bitte kontaktieren Sie uns
für maßgeschneiderte
Lösungen und technischen Support.
Stabile Stöchiometrie
Gute Konsistenz der Schichtzusammensetzung
Hochgradig kontrollierbarer Sputterprozess
Geeignet für Niedertemperatur-Abscheidungsprozesse
Erleichtert die Herstellung von Filmen mit hoher Durchlässigkeit
Kompatibel mit verschiedenen Sputtersystemen
Transparente leitfähige Filme: In transparenten elektronischen Geräten können Kupferiodid-Filme zur Herstellung von Funktionsschichten verwendet werden, die Leitfähigkeit und Durchlässigkeit für sichtbares Licht kombinieren und sich für flexible und neuartige Display-Technologien eignen. Forschung an
optoelektronischen
Geräten: Dieses Material hat einen hohen Forschungswert hinsichtlich seiner Lichtempfindlichkeitseigenschaften und wird häufig zur Verifizierung von optoelektronischen Geräten in Laborqualität und neuartigen Halbleiterstrukturen verwendet.
Heteroübergänge und Grenzschichten: In mehrschichtigen Dünnschichtstrukturen kann Kupfer(I)-Iodid als funktionale Grenzschicht dienen und das Ladungsträgertransportverhalten sowie die Grenzflächenstabilität verbessern.
Entwicklung funktionaler Beschichtungen: Durch Sputtern hergestellte Kupfer(I)-Iodid-Dünnschichten eignen sich für die Materialauswahl und Leistungsbewertung neuartiger funktionaler Beschichtungen.
F1: Ist ein Kupfer(I)-Iodid-Sputtertarget für DC- oder RF-Sputtern geeignet?
A1: Im Allgemeinen ist RF-Sputtern besser geeignet, da es zu Dünnschichten mit einer gleichmäßigeren Zusammensetzung und einer stabileren Haftung führt.
F2: Neigt das Target während des Sputterns zur Zersetzung?
A2: Unter angemessenen Leistungs- und Atmosphärenkontrollbedingungen ist die Targetstruktur stabil, was eine kontinuierliche Abscheidung ermöglicht.
F3: Sind für die Herstellung von Dünnschichten hohe Substrattemperaturen erforderlich?
A3: Dieses Material unterstützt die Abscheidung bei relativ niedrigen Substrattemperaturen und eignet sich daher für temperaturempfindliche Substratanwendungen.
F4: Welche Vorsichtsmaßnahmen sollten bei der Lagerung des Targets getroffen werden?
A4: Es wird empfohlen, es in einem versiegelten Behälter zu lagern und feuchte Umgebungen zu vermeiden, um die chemische Stabilität des Materials zu erhalten.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir sind auf die stabile Herstellung und Anwendungsunterstützung von Sputtertargets für Funktionsmaterialien spezialisiert. Von der Rohstoffkontrolle bis zur Prüfung des Endprodukts verfügen wir über ausgereifte Prozesse, die unseren Kunden eine zuverlässige Materialkonsistenz, flexible Anpassungsmöglichkeiten und eine langfristig nachhaltige Liefergarantie bieten und so den reibungslosen Ablauf von Forschungs- und Industrialisierungsprojekten ermöglichen.
Chemische Formel: CuI
Molekulargewicht: 190,45 g/mol
Erscheinungsbild: Weißes bis blassgelbes, dichtes Sputtertarget
Dichte: 5,62 g/cm³
Schmelzpunkt: 588 °C
Siedepunkt: 1.300 °C
Kristallstruktur: Kubisch
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte
