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Kupfer-Zinn-Legierung

Chemical Name:
Kupfer-Zinn-Legierung
Formula:
CuSn
Product No.:
295000
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Drehbares Ziel
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
295000RT001 CuSn 99.99% OD32 mm x ID23 mm x 150mm Inquire
Product ID
295000RT001
Formula
CuSn
Purity
99.99%
Dimension
OD32 mm x ID23 mm x 150mm

Rotationsziel aus Kupfer-Zinn-Legierung Übersicht

Rotationsziele
aus Kupfer-Zinn
-Legierung sind hochleistungsfähige Dünnschicht-Abscheidungsmaterialien, die vor allem bei der Herstellung großflächiger leitfähiger Dünnschichten und elektronischer Bauelemente zum Einsatz kommen.

Wir bieten hochdichte, gleichmäßig zusammengesetzte Sputter-Rotationsziele aus Kupfer-Zinn-Legierung in verschiedenen Größen und kundenspezifischen Ausführungen an. Bitte kontaktieren Sie uns
für technische
Informationen und maßgeschneiderte
Lösungen.

Produkt-Highlights

Stabile Legierungszusammensetzung
Dichte und gleichmäßige Sputterleistung
Gleichmäßige Schichtdicke
Feine Oberflächenbeschaffenheit
Bonding-Dienstleistungen verfügbar
Hohe Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit

Anwendungen von Sputtertargets aus Kupfer-Zinn-Legierung

Herstellung großflächiger elektronischer Dünnschichten: Dieses Rotationstarget eignet sich für die Abscheidung großflächiger leitfähiger Dünnschichten und gewährleistet eine gleichmäßige Schichtdicke und Leistungsstabilität.
Optoelektronische
Geräte und funktionelle Beschichtungen: Durch Sputtertargets mit hoher Dichte werden hochdichte Dünnschichten für die Herstellung optoelektronischer Geräte und funktioneller Beschichtungen gebildet.
Oberflächentechnik und industrielle Beschichtungen: Es kann zur Herstellung industrieller Beschichtungen mit guter Haftung und gleichmäßiger Leistung verwendet werden, wodurch die Oberflächeneigenschaften von Materialien verbessert werden.
Wissenschaftliche Forschung und Prozessentwicklung: Weit verbreitet in Forschungseinrichtungen und F&E-Abteilungen von Unternehmen zur Untersuchung des Zusammenhangs zwischen Filmbildungsbedingungen, Struktur und Eigenschaften.

Häufig gestellte Fragen

F1: Welche Sputterverfahren eignen sich für rotierende Targets aus Kupfer-Zinn-Legierungen?
A1: Geeignet für Gleichstrom-, Hochfrequenz- und Spinning-Target-Sputteranlagen; die konkrete Auswahl hängt von den Ausstattungsbedingungen ab.

F2: Beeinflusst die Dichte des Targets die Filmqualität?
A2: Ein dichtes und gleichmäßiges Target trägt zur Verbesserung der Sputterstabilität und der Gleichmäßigkeit der Filmdicke bei.

F3: Können Spinning-Targets mit unterschiedlichen Durchmessern oder Dicken individuell angepasst werden?
A3: Je nach Ausstattungs- und Prozessanforderungen sind verschiedene Größen und kundenspezifische Designs erhältlich.

F4: Welche Vorsichtsmaßnahmen sollten bei der Lagerung und dem Transport von Target-Materialien getroffen werden?
A4: Es wird empfohlen, sie in einem versiegelten Behälter zu lagern, um Feuchtigkeit und Verunreinigungen zu vermeiden und so den Zustand der Oberfläche und die Leistungsfähigkeit des Target-Materials zu erhalten.

Bericht

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind auf die Herstellung und das Qualitätsmanagement von rotierenden Targets aus Kupfer-Zinn-Legierungen spezialisiert und konzentrieren uns auf Materialgleichmäßigkeit, Verarbeitungsgenauigkeit und Lieferstabilität. Wir bieten zuverlässige und hoch bewertbare Dünnschicht-Abscheidungslösungen für Forschungs- und Industriekunden.

Chemische Formel: CuSn

Erscheinungsbild: Dichtes Zielmaterial, silbergrau bis metallisch grau

Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.

Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.

Dokumente

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