Sputtertargets aus
Kupfer-Titanoxid
sind Beschichtungsmaterialien aus Kupfer-Titanoxid-Verbindungen, die in erster Linie zur Abscheidung von Funktionsschichten mit speziellen optoelektronischen Eigenschaften verwendet werden.
Wir produzieren Keramik-Targets mit präziser Zusammensetzung und dichter Struktur. Kontaktieren Sie uns
für detaillierte Spezifikationen und technischen Support.
Hervorragende Filmqualität
Kontrollierbare chemische Zusammensetzung
Stabile Sputterrate
Verbindungs- und Substratoptionen verfügbar
Hohe Chargenkonsistenz
Photovoltaik-Geräte: Werden zur Herstellung wichtiger Funktionsschichten in Solarzellen und Fotodetektoren verwendet, um die Lichtabsorption und die Ladungstrennungseffizienz zu verbessern.
Transparente leitfähige Schichten: Deponiert transparente leitfähige Oxidschichten (TCO) für Touchscreens und flexible Displays und sorgt für ein ausgewogenes Verhältnis zwischen Leitfähigkeit und Transparenz.
Katalyse und Sensorik: Die abgeschiedenen Schichten weisen eine hohe Aktivität und Selektivität bei der Gassensorik und Umweltkatalyse auf.
Intelligente Glasbeschichtungen: Werden zur Herstellung intelligenter Fensterbeschichtungen mit thermochromen oder elektrochromen Eigenschaften verwendet, die eine dynamische Regulierung von Licht und Wärme ermöglichen.
F1: Was sind die Hauptmerkmale von Schichten, die aus Kupferoxid-Titan-Targetmaterialien gesputtert werden?
A1: Die Schichten zeichnen sich in der Regel durch einstellbare optische Bandlücken, ausgezeichnete chemische Stabilität und einzigartige elektrische oder katalytische Eigenschaften aus.
F2: Wie lassen sich die Leitfähigkeit und der spezifische Widerstand der Schicht steuern?
A2: Durch die präzise Regulierung der Oxidationszustände und des Verhältnisses von Kupfer und Titan im Targetmaterial in Kombination mit den Parametern des Sputterprozesses (z. B. Sauerstoffpartialdruck) lassen sich ihre elektrischen Eigenschaften gezielt gestalten.
F3: Muss dieses Target vor dem Sputtern vorbehandelt werden?
A3: Im Allgemeinen werden eine Oberflächenreinigung und ein Vorsputtern empfohlen, um Verunreinigungen zu entfernen und stabile Sputterbedingungen zu erreichen, wodurch die Filmqualität sichergestellt wird.
F4: Welche Vorteile bietet es gegenüber reinen Titanoxid- oder Kupferoxid-Targets?
A4: Der Vorteil liegt in der Zugabe von Kupfer, das die Bandstruktur von Titanoxid effektiv moduliert und so reichhaltigere optoelektronische und katalytische Eigenschaften für vielseitigere Anwendungen ermöglicht.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Prüfberichte von Drittanbietern auf Anfrage erhältlich
Wir sind auf die kundenspezifische Herstellung fortschrittlicher Keramik-Targets spezialisiert und nutzen strenge Materialwissenschaften und Prozesskontrollen, um sicherzustellen, dass die Produktleistung genau den Anforderungen in Forschung, Entwicklung und Fertigung entspricht. Wir sind nicht nur ein Lieferant, sondern Ihr Partner bei der technologischen Erforschung und unterstützen Ihre Dünnschichttechnologie-Anwendungen mit zuverlässigen Produkten und Expertenwissen.
Chemische Formel: CuTiO₃
Molekulargewicht: 223,66 g/mol
Erscheinungsbild: Schwarzes bis dunkelbraunes, dichtes Zielmaterial
Dichte: Ca. 4,3 g/cm³
Schmelzpunkt: Ca. 1.280 °C (kann sich bei hohen Temperaturen zersetzen)
Kristallstruktur: Orthorhombisch
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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