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Nickel-Aluminium-Legierung

Chemical Name:
Nickel-Aluminium-Legierung
Formula:
NiAl
Product No.:
281301
CAS No.:
12635-27-7
EINECS No.:
682-897-4
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
281301ST001 NiAl 99.95% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
281301ST002 NiAl 99.95% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
281301ST001
Formula
NiAl
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
281301ST002
Formula
NiAl
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Übersicht über Sputtertargets aus Nickel-Aluminium-Legierung

Sputtertargets
ausNickel-Aluminium-Legierung
sind hochreine Nickel-Aluminium-Legierungsmaterialien, die in erster Linie für die Abscheidung funktionaler Dünnschichten und die Herstellung von Hochleistungselektronikgeräten verwendet werden.

Wir bieten NiAl-Sputtertargets in verschiedenen Größen, Dicken und Strukturen an und unterstützen Sie bei der Auswahl der passenden Ausrüstung und mit technischer Beratung. Kontaktieren Sie uns
für maßgeschneiderte Lösungen.

Produkt-Highlights

Hohe Reinheit und Stabilität
Hohe Targetdichte
Gute Filmgleichmäßigkeit
Stabile Entladungsleistung
Kompatibel mit verschiedenen Sputteranlagen
Anpassbare Verbindungen
und Backplanes
Hohe Chargenkonsistenz

Anwendungen von Sputtertargets aus Nickel-Aluminium-Legierungen

Dünnschichtabscheidung für elektronische Geräte: NiAl-Sputtertargets können zur Herstellung von leitfähigen oder funktionalen Dünnschichten verwendet werden und gewährleisten eine stabile Leistung und Filmgleichmäßigkeit in elektronischen Geräten.
Funktionale Hochtemperatur-Dünnschichten: Geeignet für die Dünnschichtabscheidung in Hochtemperaturanwendungen, verbessert die Wärmebeständigkeit und strukturelle Stabilität der Schicht.
Beschichtung von Verbundwerkstoffen: Funktionelle Schichten können in mehrschichtigen Verbundwerkstoffen abgeschieden werden, wodurch die Leitfähigkeit und thermische Stabilität des Verbundwerkstoffs verbessert wird.
Wissenschaftliche Forschung und Prozessentwicklung: NiAl-Targets eignen sich für Dünnschicht-Prozessversuche und die Entwicklung neuer Materialien und tragen dazu bei, wiederholbare Abscheidungsergebnisse in der Forschungs- und Entwicklungsphase zu erzielen.

Häufig gestellte Fragen

F1: In welchen Bereichen werden NiAl-Sputter-Targets hauptsächlich eingesetzt?
A1: Sie werden häufig in elektronischen Geräten, funktionalen Dünnschichten, Hochtemperatur-Dünnschichten und wissenschaftlichen Forschungsversuchen eingesetzt.

F2: Können NiAl-Targets an verschiedene Sputteranlagen angepasst werden?
A2: Ja, wir bieten verschiedene Größen und Strukturen an, die zu den gängigen Sputteranlagen passen.

F3: Sind Targets anfällig für Probleme beim Sputtern?
A3: Targets mit hoher Dichte gewährleisten eine stabile Entladung und verringern so das Risiko einer ungleichmäßigen Abscheidung beim Sputtern.

F4: Wie sollten NiAl-Sputter-Targets gelagert werden?
A4: Es wird empfohlen, sie in einem trockenen, verschlossenen Behälter zu lagern und Stöße oder Feuchtigkeit zu vermeiden, um die Leistung der Targets zu erhalten.

Bericht

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir verfügen über umfangreiche Erfahrung mit Hochleistungs-Sputter-Targets und bieten eine stabile NiAl-Target-Qualität sowie maßgeschneiderte Dienstleistungen in Verbindung mit umfassendem technischen Support, um unseren Kunden zu helfen, stabile und effiziente Abscheidungsergebnisse in elektronischen Geräten und Dünnschichtanwendungen zu erzielen.

Molekulare Formel: NiAl
Erscheinungsbild: Silbrig-weißes oder gräulich-weißes Pulver
Kristallstruktur: Kubische Kristallstruktur

Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.

Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.

Dokumente

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