Nickel-Eisenoxid
-Sputtertargets sind Oxyd-Targets mit Spinellstruktur, die in erster Linie für die Abscheidung von magnetischen Oxyd-Dünnschichten und verwandten Funktionsschichten verwendet werden.
Wir bieten hochdichte, in ihrer Zusammensetzung stabile NiFe2O4-Sputtertargets an, deren Größe und Struktur individuell angepasst werden können. Bitte kontaktieren Sie uns
für technische Parameter.
Stabile Spinell-Phasenstruktur
Hohe Targetdichte
Gute Konsistenz der Filmzusammensetzung
Geeignet für Oxid-Sputterprozesse
Gute thermische Stabilität
Anpassbare Verbindungen
und Backplanes
Kundenspezifische Verarbeitung möglich
Magnetische Oxid-Dünnschichten: Werden häufig für die Abscheidung von ferritbasierten magnetischen Dünnschichten verwendet und eignen sich für Anwendungen, die eine hohe magnetische Reaktionsstabilität und Wiederholbarkeit erfordern.
Elektronische und funktionale Geräte: Wird zur Bildung von oxidischen Funktionsschichten mit spezifischen magnetoelektrischen Eigenschaften in einigen elektronischen Geräten und Funktionsmaterialien verwendet.
Sensor- und magnetische Steuerungsmaterialien: Kann zur Herstellung von magnetisch empfindlichen oder verwandten Steuerungsmaterial-Dünnschichten verwendet werden, die die Anforderungen an eine kontrollierbare Schichtstruktur und Leistung erfüllen.
Forschung und Prozessentwicklung: Geeignet für den experimentellen Einsatz in Forschungseinrichtungen zur Steuerung der Struktur von Oxid-Dünnschichten, zur Optimierung der Sputterparameter und zur Erforschung neuer Materialien.
F1: Welche Sputtermethode eignet sich für NiFe2O4-Sputter-Targets?
A1: Kann in herkömmlichen Magnetron-Sputterprozessen verwendet werden. Die spezifische Methode muss auf der Grundlage der Gerätebedingungen bestätigt werden.
F2: Erfordert das Target eine spezielle Vorbehandlung?
A2: In der Regel ist keine komplexe Vorbehandlung erforderlich; der herkömmliche Betrieb des Oxid-Targets ist ausreichend.
F3: Ist die Zusammensetzung des abgeschiedenen Films stabil?
A3: Unter angemessenen Prozessparametern weist die Filmzusammensetzung eine gute Übereinstimmung mit dem Target auf.
F4: Bieten Sie kleine Größen für Forschungszwecke an?
A4: Ja, wir können verschiedene Größenoptionen anbieten, die für die Forschungs- und Entwicklungsphase sowie für Versuche geeignet sind.
Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir verfügen über umfangreiche Erfahrung in der Herstellung und Verarbeitung von Oxid-Sputter-Targets und legen besonderen Wert auf strukturelle Stabilität, Prozessanpassungsfähigkeit und gleichbleibende Qualität, wodurch wir zuverlässige Unterstützung für magnetische Dünnschichten und funktionale Geräteanwendungen bieten können.
Molekulare Formel: NiFe₂O₄
Molekulargewicht: 231,53 g/mol
Äußeres Erscheinungsbild: Schwarzes oder dunkelbraunes Zielmaterial mit einer glatten Oberfläche
Dichte: Ungefähr 5,2 g/cm³
Schmelzpunkt: Ungefähr 1.550°C
Siedepunkt: Zersetzungspunkt ca. 2.500°C
Kristallstruktur: Spinell-Struktur
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte
