Nickel-Niob-Titan-Legierung

Sputtertarget aus Nickel-Niob-Titan-Legierung – Übersicht

Sputtertargets aus
Nickel-Niob-Titan
-Legierung sind hochreine Targets aus einer ternären Nickel-Niob-Titan-Legierung, die sich für die Abscheidung von funktionalen Dünnschichten und hochpräzisen mikroelektronischen Bauelementen eignen.

Wir bieten NiNbTi-Sputter-Targets mit einheitlicher Zusammensetzung und dichter Struktur an. Kundenspezifische Größen und Proportionen können bereitgestellt werden, um spezifische Prozessanforderungen zu erfüllen. Bitte kontaktieren Sie uns
für technische Informationen.

Produkt-Highlights

Hochreine ternäre Legierung
Einheitliche und stabile Zusammensetzung
Gute Wiederholbarkeit der Schicht
Hohe Target-Dichte
Geeignet für Magnetron-Sputter-Prozesse
Unterstützt die
Anpassung von Verbindungen
und Backplanes
Unterstützt die Anpassung

an mehrere Spezifikationen

Anwendungen von Sputtertargets aus Nickel-Niob-Titan-Legierungen

Hochleistungsfähige funktionelle Dünnschichten: Geeignet für die Herstellung von funktionellen Nickel-Niob-Titan-Dünnschichten mit hervorragenden mechanischen, elektrischen und magnetischen Eigenschaften, die gleichmäßige und stabile Schichten gewährleisten.
Herstellung mikroelektronischer Bauelemente: Wird zur Bildung stabiler Legierungsdünnschichten in mikroelektronischen und MEMS-Bauelementen verwendet und erfüllt präzise Prozessanforderungen.
Korrosionsbeständige und schützende Schichten: Kann zur Herstellung korrosionsbeständiger, schützender oder funktioneller Dünnschichten verwendet werden, wodurch die Stabilität der Bauelemente in komplexen Umgebungen verbessert wird.
Forschung und Prozessentwicklung: Geeignet für den experimentellen Einsatz in Forschungseinrichtungen zur Steuerung der Dünnschichtstruktur, zur Optimierung des ternären Legierungsverhältnisses und zur Erforschung von Prozessparametern.

Häufig gestellte Fragen

F1: Mit welchen Sputteranlagen können NiNbTi-Sputter-Targets verwendet werden?
A1: Geeignet für herkömmliche Magnetron-Sputteranlagen; die spezifischen Anforderungen hängen von den Gerätespezifikationen ab.

F2: Kann das ternäre Verhältnis des Targets angepasst werden?
A2: Ja, je nach den Anforderungen an die Dünnschichtleistung können maßgeschneiderte Lösungen mit unterschiedlichen Nickel-, Niob- und Titananteilen angeboten werden.

F3: Ist die Zusammensetzung der Dünnschicht während des Sputterns stabil?
A3: Unter Standardprozessbedingungen weist die Zusammensetzung der Dünnschicht eine gute Übereinstimmung mit dem Target auf.

F4: Bieten Sie kleine oder für Forschungszwecke geeignete Targets an?
A4: Ja, wir unterstützen dies und können verschiedene Spezifikationen anbieten, die für die Forschungs- und Entwicklungsphase sowie für Versuchsstadien geeignet sind.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir verfügen über umfangreiche Erfahrung in der Herstellung und Verarbeitung von Targets aus Nickel-Niob-Titan-Dreierlegierungen, wobei wir besonderen Wert auf eine gleichmäßige Zusammensetzung, strukturelle Kompaktheit und Prozessanpassungsfähigkeit legen und zuverlässige Materialunterstützung für funktionelle Dünnschichten und leistungsstarke mikroelektronische Bauelemente bieten.