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Nickel-Tanralum-Legierung

Chemical Name:
Nickel-Tanralum-Legierung
Formula:
NiTa
Product No.:
287300
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
287300ST001 NiTa 99.9% Ø 101.6 mm x 2 mm Inquire
287301ST002 NiTa 99.9% Ø 101.6 mm x 2 mm Inquire
Product ID
287300ST001
Formula
NiTa
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6 mm x 2 mm
Product ID
287301ST002
Formula
NiTa
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6 mm x 2 mm

Nickel-Tanralum-Legierung Sputtering Target Übersicht

Nickel-Tanralum-Legierung sputtertargets sind hochreine Targets aus einer Nickel-Tantal-Legierung, die häufig bei der Herstellung von halbleiter halbleiterbauelementen, leitfähigen Dünnschichten, optoelektronischen Materialien und Dünnschichten für die wissenschaftliche Forschung.

Wir bieten eine Vielzahl von Größen, dichten und gleichmäßigen sowie chemisch stabilen NiTa-Sputtertargets für unterschiedliche Prozessanforderungen an. Bitte kontaktieren Sie uns für technische Informationen.

Produkt-Highlights

Hochreine Nickel-Tantal-Legierung
Dichtes und gleichmäßiges Target
Ausgezeichnete Leitfähigkeit
Gute thermische Stabilität
Einfache Dünnschichtabscheidung
Zuverlässige Chargenkonsistenz

Anwendungen von Sputtertargets aus Nickel-Tanralum-Legierungen

Halbleiter Vorbereitung von Bauelementen: Geeignet für die Abscheidung von Halbleiter-Dünnschichten wie Transistoren und integrierte Schaltkreise zur Verbesserung der Leistung und Stabilität der Geräte.
Leitfähige Dünnschichten: Für die Herstellung von leitfähigen Schichten und funktionellen Beschichtungen, die die Leitfähigkeit und Haltbarkeit elektronischer Geräte verbessern.
Optoelektronische Geräte: Geeignet für Dünnschichten für Photovoltaik, Photodetektoren und andere optoelektronische Materialien zur Verbesserung der photoelektrischen Umwandlungseffizienz.
Wissenschaftliche Forschung und Prozessentwicklung: Geeignet für Forschungseinrichtungen zur Durchführung von Leistungstests von NiTa-Material-Dünnschichten und zur Entwicklung neuer Verfahren.

FAQs

Q1: Kann die Größe und Form der NiTa-Sputter-Targets individuell angepasst werden?

A1: Ja, wir können Targets in verschiedenen Größen und Formen je nach Sputteranlage und Prozessanforderungen liefern.

Q2: Ist das Target während der Abscheidung stabil?

A2: Hochreine NiTa-Targets haben eine gute thermische Stabilität, die eine gleichmäßige Schichtabscheidung gewährleistet.

F3: Für welche Arten der Dünnschichtabscheidung sind die Targets geeignet?

A3: Sie eignen sich für die Abscheidung von Halbleiter-Dünnschichten, leitfähigen Schichten und funktionalen Dünnschichten.

F4: Wie wird die Chargenkonsistenz der Targets gewährleistet?

A4: Durch strenge Produktionsprozesse und Qualitätstests gewährleisten wir eine gleichbleibende Zusammensetzung und Leistung.

Berichte

Jede Charge wird geliefert mit:
Zertifikat der Analyse (COA)
Technisches Datenblatt (TDS)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Bericht zur Größeninspektion
Prüfberichte von Dritten auf Anfrage erhältlich

Warum uns wählen?

Wir sind spezialisiert auf die F&E und die Lieferung von hochreinen NiTa-Sputtertargets spezialisiert, wobei wir besonderen Wert auf die Dichte und Gleichmäßigkeit der Targets, die chemische Stabilität und die Prozesskompatibilität legen. Wir bieten eine zuverlässige Materialunterstützung für Halbleiterbauelemente, leitfähige Filme und wissenschaftliche Dünnschichtabscheidungen.

Molekulare Formel: NiTa
Erscheinungsbild: Metallisch glänzend, silbrig-grau
Kristallstruktur: Körperzentrierte kubische Struktur

Innere Verpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kisten zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.

Äußere Verpackung: Kartons oder Holzkisten, die je nach Größe und Gewicht ausgewählt werden.

Dokumente

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