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Hafnium-Metall

Chemical Name:
Hafnium-Metall
Formula:
Hf
Product No.:
7200
CAS No.:
7440-58-6
EINECS No.:
231-166-4
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
7200ST001 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
7200ST002 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
7200ST003 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
7200ST004 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
7200ST005 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
7200ST006 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
7200ST007 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
7200ST001
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
7200ST002
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
7200ST003
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
7200ST004
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
7200ST005
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
7200ST006
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
7200ST007
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Sputtertargets aus Hafnium-Metall Übersicht

Hafnium-Metall sputtertargets sind Hochleistungsmaterialien, die speziell für Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt wurden. Mit einem Reinheitsgrad von 99,9 % bieten sie eine hervorragende thermische Stabilität, Dichte und Festigkeit und gewährleisten eine gleichmäßige Dünnschichtabscheidung, eine starke Haftung und extrem niedrige Verunreinigungswerte.

Wir bieten Sputtertargets aus Hafnium-Metall in einer Vielzahl von Formen und Größen an, darunter runde, rechteckige und kundenspezifische Größen, um die spezifischen Anforderungen unserer Kunden zu erfüllen. Wir bieten auch einen umfassenden Kundendienst; bitte wenden Sie sich an kontaktieren Sie uns wenn Sie irgendwelche Fragen haben.

Produkt-Highlights

Reinheit: 99,9%

Hohe Dichte gewährleistet gleichmäßige Dünnschichtabscheidung

Hohe Festigkeit und thermische Stabilität für Sputteranwendungen mit hoher Leistung

Anpassbare Größen und Formen

Target-Bonden dienstleistungen verfügbar

Geeignet für Anwendungen in der Halbleiterindustrie, optischen Beschichtungen, Luft- und Raumfahrt und anderen Bereichen

Anwendungen von Hafnium-Metall-Sputter-Targets

Halbleiter: Für die Abscheidung von Dünnschichten bei hohen Temperaturen und mit hoher Leistung, z. B. Elektroden- und Kontaktschichten.

Optische Beschichtungen: Zur Herstellung hochreflektierender Dünnschichten mit hoher Härte für Anwendungen wie optische Komponenten und Spiegel. Luft- und Raumfahrt: Hf-Sputtertargets bieten eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit und Hochtemperaturleistung in Hochtemperatur- und Hochdruckumgebungen, wodurch sie in der Luft- und Raumfahrt weit verbreitet sind.
Elektrotechnik und Energie: Sie bieten außergewöhnliche Stabilität und Zuverlässigkeit in Anwendungen wie Solar- und Funktionsschichten.

Berichte

Wir bieten ein Analysezertifikat (COA), Sicherheitsdatenblatt (MSDS) und andere relevante Berichte mit jeder Lieferung. Wir unterstützen auch Tests durch Dritte, um die Qualitätssicherung unserer Produkte zu verbessern.

Molekulare Formel: Hf
Molekulargewicht: 178,49 g/mol
Erscheinungsbild: Silbrig-weißes Metall mit glatter Oberfläche
Dichte: Ungefähr 13,31 g/cm³ (nahe der theoretischen Dichte)
Schmelzpunkt: Ungefähr 2.233 °C
Kristallstruktur: Hexagonal dicht gepackt (hcp)

Innere Verpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kisten zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.

Äußere Verpackung: Kartons oder Holzkisten, die je nach Größe und Gewicht ausgewählt werden.

SKU 7200ST Kategorie Marke:

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