| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 720800ST001 | HfO2 | 99.9% (Zr< 0.5wt%) | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 720800ST002 | HfO2 | 99.9% (Zr< 0.5wt%) | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 720800ST003 | HfO2 | 99.9% (Zr< 0.5wt%) | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
Hafniumoxid sputtertargets sind hochentwickelte keramische Materialien, die speziell für Hochleistungs-Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt wurden. Ihre extrem hohe Reinheit und dichte Struktur gewährleisten eine gleichmäßige und stabile Dünnschichtabscheidung, eine hervorragende Haftung und einen äußerst geringen Gehalt an Verunreinigungen, was den strengen Anforderungen der Halbleiter- und Optoelektronikindustrie entspricht.
Wir bieten eine Vielzahl von Sputtertargets aus Hafniumoxid in verschiedenen Größen und Formen an, die an die spezifischen Kundenanforderungen angepasst werden können. Außerdem bieten wir umfassenden after-Sales-Unterstützung um eine sorgenfreie Nutzung zu gewährleisten.
Reinheit: 99,9%
Hohe Dichte gewährleistet gleichmäßige Dünnschichtabscheidung
Anpassbare Größe, Form und Verpackung
Zielgerichtete Verklebung dienstleistungen verfügbar
Geeignet für Halbleiter, Filme mit hoher k-Dielektrizitätskonstante, optische Beschichtungen und andere Anwendungen
Halbleiter: Als hoch-κ-dielektrisches Material wird es häufig in dielektrischen Gate-Schichten der nächsten Generation integrierter Schaltungen verwendet, um die Leistung und Stabilität der Bauelemente zu verbessern.
Optoelektronik: Wird für die Herstellung optischer Dünnschichten mit hoher Durchlässigkeit und hohem Brechungsindex verwendet.
Speichergeräte: Für die Abscheidung dünner Schichten in nichtflüchtigen Speicheranwendungen.
Optische beschichtungen: Für die Beschichtung von Hochleistungs-Funktionsschichten in Linsen, Displays und Lasergeräten.
Wir bieten ein vollständiges Analysezertifikat (COA), das Sicherheitsdatenblatt (MSDS) und andere relevante technische Berichte für jede Charge von HfO₂-Sputtertargets. Wir unterstützen die Prüfung durch Dritte, um sicherzustellen, dass die Produktqualität den internationalen Standards und Kundenanforderungen entspricht.
Molekulare Formel: HfO₂
Molekulargewicht: 210,49 g/mol
Äußeres Erscheinungsbild: Weißes, dichtes keramisches Target mit einer glatten Oberfläche
Dichte: Ungefähr 9,68 g/cm³ (nahe der theoretischen Dichte)
Schmelzpunkt: Ungefähr 2.758 °C
Kristallstruktur: Monoklin, tetragonal oder kubisch
Innere Verpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kisten zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.
Äußere Verpackung: Kartons oder Holzkisten, die je nach Größe und Gewicht ausgewählt werden.
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