Thulium-Metall-Sputtertargets sind hochreine Materialien aus Seltenerdmetallen, die speziell für fortschrittliche Dünnschichtabscheidungsverfahren entwickelt wurden. Sie eignen sich für eine Vielzahl von PVD-Verfahren wie Magnetronsputtern, Ionenstrahlabscheidung und Elektronenstrahlverdampfung. Mit einer Reinheit von bis zu 99,9 %, einer dichten Metallstruktur und einer gleichmäßigen Filmbildung eignen sich hochreine Thulium-Metallsputtertargets besonders für High-Tech-Bereiche wie magneto-optische Materialien, Infrarotfenster, Lasergeräte und Funktionsfilme für die Forschung.
Wir können Thulium-Metallsputtertargets in verschiedenen Formen und Größen anbieten, einschließlich runder, rechteckiger und speziell geformter Targets, und unterstützen auch kundenspezifische Spezifikationen zur Anpassung an die Ausrüstung des Kunden. Wir bieten ein umfassendes Angebot an technischen Unterstützungsdiensten, einschließlich Targetbindungsdiensten, um unseren Kunden einen reibungslosen Übergang vom Experiment zur Massenproduktion zu ermöglichen.
Reinheit: 99,9%
Hochdichte Struktur: optimiert die Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung
Eigenschaften des Seltenerdmetalls: Paramagnetismus, gutes Infrarot-Reflexionsvermögen, hohe Ordnungszahl
Unterstützung der Kundenanpassung: Größe, Form, Rückwand, Befestigungslöcher usw. können je nach Bedarf flexibel angepasst werden
Hohe Kompatibilität: Anpassung an gängige Vakuumbeschichtungsanlagen und F&E-Plattformen
Bindung: kann Target-Bindung und Backplane-Verarbeitung anbieten
Magneto-optische Materialien: zur Herstellung von Dünnschichtmaterialien wie magneto-optische Speicher und optische Isolatoren zur Verbesserung der magneto-optischen Reaktion
Infrarot-Optik: für Fenster und Beschichtungen im mittleren und fernen Infrarotbereich zur Verbesserung der thermischen Reflexion und Absorptionskontrolle
Laser- und Fluoreszenzgeräte: Verwendung als Dotierungselemente oder aktivierte Schichten in Nahinfrarot-Lasern
Materialwissenschaftliche Forschung: als Quelle für Seltenerdmetalle zur Herstellung von Multielement-Legierungen, Übergitterstrukturen und funktionalen Verbundschichten
Wir stellen detaillierte Analysezertifikate (COA), Sicherheitsdatenblätter (MSDS) und andere relevante Dokumente für jede Charge von Thuliummetall-Sputter-Targets zur Verfügung, um sicherzustellen, dass die Produkte die Qualitätsanforderungen an hohe Reinheit und hohe Konsistenz erfüllen. Gleichzeitig unterstützen wir Prüfdienste Dritter, um die Zuverlässigkeit und Transparenz der Projekte zu verbessern.
Molekulare Formel: Tm
Äußeres Erscheinungsbild: Silberweißes Metalltarget, feine Textur, glatte Oberfläche ohne Risse
Dichte: etwa 9,3 g/cm³ (nahe der theoretischen Dichte)
Schmelzpunkt: ca. 1.545 °C
Kristallstruktur: hexagonal dicht gepackt (hcp)
Chemische Stabilität: oxidiert langsam an der Luft
Mechanische Eigenschaften: weiches Gefüge (Vickershärte ca. 500 MPa), gute Verarbeitbarkeit, geeignet für Kaltpressen und Bearbeitung zu Targets
Signalwort:
Gefahr
Gefahrenhinweise:
H228: Entzündbarer Feststoff
H260: Entwickelt bei Berührung mit Wasser entzündbare Gase, die sich spontan entzünden können
Innere Verpackung: Vakuumversiegelter Beutel zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.
Äußere Verpackung: Karton oder Holzkiste, je nach Größe und Gewicht.
Zerbrechliche Ziele: Für einen sicheren Transport wird eine spezielle Schutzverpackung verwendet.
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